[发明专利]一种发光二极管外延片及其制作方法在审

专利信息
申请号: 201810400258.9 申请日: 2018-04-28
公开(公告)号: CN108598236A 公开(公告)日: 2018-09-28
发明(设计)人: 葛永晖;郭炳磊;王群;吕蒙普;舒辉;胡加辉;李鹏 申请(专利权)人: 华灿光电(苏州)有限公司
主分类号: H01L33/20 分类号: H01L33/20;H01L33/24;H01L33/00
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 代理人: 徐立
地址: 215600 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种发光二极管外延片及其制作方法,属于半导体技术领域。外延片包括衬底、缓冲层、N型半导体层、有源层和P型半导体层,缓冲层铺设在衬底上,N型半导体层的第一表面铺设在缓冲层上,N型半导体层的第二表面包括凸起部和凹陷部,第二表面为与第一表面相反的表面;有源层铺设在凸起部和凹陷部上,P型半导体层铺设在有源层上,P型半导体层和有源层的厚度之和小于凸起部的高度。本发明通过将N型半导体层设置有源层的表面从平面改成凹凸不平,增大了有源层的发光面积,提高LED的发光亮度;同时改变有源层发出光线的出射方向,有利于提高LED出光效率,进而提高LED的发光效率。
搜索关键词: 源层 缓冲层 凸起部 铺设 发光二极管外延 第二表面 第一表面 凹陷部 衬底 发光 半导体技术领域 凹凸不平 出光效率 发光效率 外延片 出射 制作
【主权项】:
1.一种发光二极管外延片,所述发光二极管外延片包括衬底、缓冲层、N型半导体层、有源层和P型半导体层,所述缓冲层铺设在所述衬底上,其特征在于,所述N型半导体层的第一表面铺设在所述缓冲层上,所述N型半导体层的第二表面包括凸起部和凹陷部,所述第二表面为与所述第一表面相反的表面;所述有源层铺设在所述凸起部和所述凹陷部上,所述P型半导体层铺设在所述有源层上,所述P型半导体层和所述有源层的厚度之和小于所述凸起部的高度。
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