[发明专利]一种低温高强熔块釉及其制备方法和应用有效
申请号: | 201810390506.6 | 申请日: | 2018-04-27 |
公开(公告)号: | CN108358450B | 公开(公告)日: | 2020-11-24 |
发明(设计)人: | 高峰;武晓宇;魏东;王正;郑林会 | 申请(专利权)人: | 太原理工大学 |
主分类号: | C03C8/02 | 分类号: | C03C8/02;C04B33/132;C04B33/34;C04B41/86 |
代理公司: | 太原市科瑞达专利代理有限公司 14101 | 代理人: | 刘宝贤 |
地址: | 030024 山西*** | 国省代码: | 山西;14 |
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摘要: |
一种低温高强熔块釉各原料组份的重量百分比为:高岭土8‑19%,石英29‑45%,硼砂18‑31%,硼酸0‑7.5%,碳酸钾3‑6.5%,碳酸钠0‑5%,碳酸钙9‑19%,氧化镁0‑3.5%,其中,碳酸钠和硼酸不能同时为0。采用本发明熔块釉制备的烧结透水砖,其抗压强度为39.8‑42.5MPa,透水系数为2.02‑2.32×10 |
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搜索关键词: | 一种 低温 高强 熔块釉 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】:
1.一种低温高强熔块釉,其特征在于各原料组份的重量百分比为:高岭土 8‑19%石英 29‑45%硼砂 18‑31%硼酸 0‑7.5%碳酸钾 3‑6.5%碳酸钠 0‑5%碳酸钙 9‑19%氧化镁 0‑3.5%其中,碳酸钠和硼酸不能同时为0。
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