[发明专利]静电吸附夹盘及其制造方法、以及半导体装置的制造方法有效
申请号: | 201810385554.6 | 申请日: | 2018-04-26 |
公开(公告)号: | CN108807257B | 公开(公告)日: | 2022-10-28 |
发明(设计)人: | 山本荣一;寺久保欣浩;三井贵彦;伊东利洋 | 申请(专利权)人: | 株式会社冈本工作机械制作所 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683;H01L21/304 |
代理公司: | 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 | 代理人: | 程伟;王锦阳 |
地址: | 日本国群马*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及静电吸附夹盘及其制造方法、以及半导体装置的制造方法。本发明提供一种静电吸附夹盘及其制造方法以及半导体装置的制造方法,可使半导体晶圆的剥离容易且可抑制半导体晶圆的破裂,并且将半导体晶圆高精确度地修整以谋求薄层化。该利用静电力来保持半导体晶圆的静电吸附夹盘,具有基板、接合在基板的一主面的合成树脂片及配设在合成树脂片的内部的至少一对电极,且在合成树脂片的表面形成有供半导体晶圆抵接的经平坦化的研削面。借此,可将半导体晶圆予以吸附保持,并且容易地进行剥离,且可抑制剥离时的破损。此外,借由形成经过平坦化的研削面作为保持面,可将半导体晶圆的厚度均匀地进行修整,以谋求薄层化。 | ||
搜索关键词: | 静电 吸附 及其 制造 方法 以及 半导体 装置 | ||
【主权项】:
1.一种静电吸附夹盘,借由静电力来保持半导体晶圆,其具备:基板;合成树脂片,其接合于所述基板的一主面;以及至少一对电极,其配设于所述合成树脂片的内部;在所述合成树脂片的表面,形成有供所述半导体晶圆抵接的平坦化的研削面。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造