[发明专利]一种强吸收圆二色性的单层三折孔纳米薄膜及其制备方法有效
申请号: | 201810367398.0 | 申请日: | 2018-04-23 |
公开(公告)号: | CN108415116B | 公开(公告)日: | 2021-01-15 |
发明(设计)人: | 张中月;冯晓钰;王菲;赵文静 | 申请(专利权)人: | 陕西师范大学 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;C23C14/30;C23C14/18;C23C14/04 |
代理公司: | 西安智萃知识产权代理有限公司 61221 | 代理人: | 赵双 |
地址: | 710119 陕西省西安市长*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明具体涉及一种强吸收圆二色性的单层三折孔纳米薄膜及其制备方法,该单层三折孔纳米薄膜由多个相同的纳米单元上下、左右组合构成,且呈单层手性结构,纳米单元的横截面为正方形,所述纳米单元上开设有三折孔,三折孔具有手性特征,且三折孔的长度方向与正方形的边长平行。该单层三折孔纳米薄膜的制备方法,包括甩胶后烘、曝光、显定影后烘、真空镀膜、溶胶后吹干步骤,比现有的三层、两层纳米薄膜的制备方法更简单,且该单层三折孔纳米薄膜实现强吸收圆二色性,且信号分布在可见光波段,利于信号的探测。 | ||
搜索关键词: | 一种 吸收 圆二色性 单层 三折孔 纳米 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种强吸收圆二色性的单层三折孔纳米薄膜,其特征在于:该单层三折孔纳米薄膜由多个相同的纳米单元(1)上下、左右组合构成,且呈单层手性结构;所述纳米单元(1)的横截面为正方形,所述纳米单元(1)上开设有三折孔(2);所述三折孔(2)具有手性特征,且所述三折孔(2)的长度方向与正方形的边长平行。
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