[发明专利]使用斜降流量的反应气体进行等离子体辅助循环沉积的方法

摘要

一种方法是通过等离子体辅助循环沉积来形成氮化物或氧化物膜，其一个循环包含：将第一反应物、第二反应物及前体馈送到放置有衬底的反应空间中，其中所述第二反应物以第一流量比流动，其中流量比定义为所述第二反应物的流动速率与所述反应空间中流动的气体的总流动速率的比率；以及停止馈送所述前体，而以从所述第一流量比逐渐降低至第二流量比的流量比连续地馈送所述第一反应物和所述第二反应物，同时对所述反应空间施加RF功率以使所述衬底暴露于等离子体。所述第二反应物是由含氢化合物或含氧化合物构成。

主权项

1.一种通过等离子体辅助循环沉积来形成氮化物或氧化物膜的方法，包括：(i)将第一反应物、第二反应物及前体馈送到放置有衬底的反应空间中，所述第二反应物由含氢化合物或含氧化合物构成，其中所述第二反应物以第一流量比流动，其中流量比定义为所述第二反应物的流动速率与所述反应空间中流动的气体的总流动速率的比率；(ii)停止馈送所述前体，而以从所述第一流量比逐渐降低至第二流量比的流量比连续地馈送所述第一反应物和所述第二反应物，同时对所述反应空间施加RF功率以使所述衬底暴露于等离子体；以及(iii)重复步骤(i)和(ii)直至获得所希望厚度的所述氮化物或氧化物膜。