[发明专利]一种纳米多层膜调制比的实时测量方法及装置

摘要

本发明涉及一种纳米多层膜调制比的实时测量方法及装置。首先制备出目标调制周期下不同调制比的纳米多层膜作为标准样，计算其电阻率，建立电阻率与调制比一一对应的数据库。然后通过机械臂调整四探针测试仪的探针与待检测薄膜相对位置，测出待检薄膜电阻率。最后通过计算机对采集的信号进行处理，在数据库中检索出该电阻率对应的调制比，即为待检薄膜调制比。工业制备纳米多层膜过程中，为了保证每个调制周期准确的调制比，需要对其频繁的离线检测，耗费了大量时间。该方法的提出成功地解决了这一问题，在多层膜制备过程中可实时检测薄膜的调制比，及时发现调制比不合格膜，节约大量时间，提高工作效率。

主权项

1.一种纳米多层膜调制比的实时测量装置，其特征在于：包括待检测纳米多层膜，四探针探头，导线，机械臂，摄像头，四探针测试仪和计算机；所述四探针探头的接触面积小于所述纳米多层膜的面积，四探针探头固定在机械臂上，机械臂焊接在磁控溅射仪腔体的顶盖上；所述四探针探头的信号通过导线与所述四探针测试仪的信号采集端相连，所述四探针测试仪的信号输出端与所述计算机相连；机械臂为六自由度以上的机械臂。