[发明专利]一种控制频谱主副瓣特性的加窗方法有效

专利信息
申请号: 201810339546.8 申请日: 2018-04-16
公开(公告)号: CN108874743B 公开(公告)日: 2021-06-18
发明(设计)人: 刘泉华;孙颖豪;蔡津剑;龙腾 申请(专利权)人: 北京理工大学
主分类号: G06F17/14 分类号: G06F17/14
代理公司: 北京理工大学专利中心 11120 代理人: 郭德忠;李爱英
地址: 100081 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种控制频谱主副瓣特性的加窗方法,通过设定不同的窗函数和赋形向量,再计算频域Wf与目标频域Wfm差值的2‑范数的最小值,获取对应的所需窗函数;则所需窗函数对待分析信号进行加窗时,能够灵活控制截断信号的主副瓣特性,如控制主瓣展宽及主瓣增益损失、压低部分区域的副瓣,能够改善遮蔽效应,增强弱目标的检测能力,通用性强,实用性高,灵活性好。
搜索关键词: 一种 控制 频谱 主副瓣 特性 方法
【主权项】:
1.一种控制频谱主副瓣特性的加窗方法,其特征在于,包括以下步骤:S1:根据设定初始窗函数w0的频域Wf0与设定的赋形向量m的乘积,获取目标频域Wfm;S2:设期望窗函数w的频域为Wf,获取频域Wf与目标频域Wfm差值的2‑范数取最小值时对应的期望窗函数w,所述对应的期望窗函数w为待定窗函数;S3:判断所述待定窗函数是否满足设定条件:如果满足,所述待定窗函数为所需窗函数,并执行步骤S4;否则将所述待定窗函数取代设定初始窗函数w0后,重新执行步骤S1和S2,直到所述待定窗函数满足设定条件,获取所需窗函数;S4:将所需窗函数截断待分析信号,从而实现加窗,进而改变待分析信号频谱的主副瓣特性。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京理工大学,未经北京理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810339546.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top