[发明专利]一种投影高光谱系统在审
| 申请号： | 201810336380.4 | 申请日： | 2018-04-11 |
| 公开（公告）号： | CN108519152A | 公开（公告）日： | 2018-09-11 |
| 发明（设计）人： | 张立福;张红明;张霞;岑奕;孙雪剑 | 申请（专利权）人： | 中科谱光科技（北京）有限公司 |
| 主分类号： | G01J3/02 | 分类号： | G01J3/02;G01N21/01 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 王莹;吴欢燕 |
| 地址： | 100101 北京市海*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供一种投影高光谱系统，包括光源单元、光调制单元、分光单元和投影物镜单元；所述光源单元用于向所述光调制单元发射宽谱光束；所述光调制单元用于依次选择所述宽谱光束中的宽谱线光束并将所述宽谱线光束传递至所述投影物镜单元；所述投影物镜单元用于接收所述宽谱线光束并照射至样品，收集样品反射光；所述分光单元用于接收所述反射光进行色散处理，并检测色散处理后的二维光信号。基于投影技术和光谱分光技术相结合获取垂直安放的壁画等样品的高光谱信息，既可以提供样品空间形态分布，又能够提供成像视场内精确到像素点的样品光谱信息，可以辅助进行颜料识别、分析、结果的可视化以及后处理，为壁画等组分分析提供新的实验平台。 | ||
| 搜索关键词： | 宽谱 光调制单元 投影物镜 高光谱 线光束 分光单元 光源单元 色散处理 投影 壁画 样品反射光 后处理 光谱分光 实验平台 投影技术 样品光谱 样品空间 依次选择 组分分析 反射光 可视化 像素点 二维 颜料 成像 照射 垂直 传递 发射 检测 分析 | ||
【主权项】：
1.一种投影高光谱系统，其特征在于，包括光源单元、光调制单元、分光单元和投影物镜单元；所述光源单元用于向所述光调制单元发射宽谱光束；所述光调制单元用于依次选择所述宽谱光束中的宽谱线光束并将所述宽谱线光束传递至所述投影物镜单元；所述投影物镜单元用于接收所述宽谱线光束并照射至样品，收集样品反射光；所述分光单元用于接收所述反射光进行色散处理，并检测色散处理后的二维光信号。
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