[发明专利]一种投影高光谱系统

说明书

本发明实施例提供一种投影高光谱系统，包括光源单元、光调制单元、分光单元和投影物镜单元；所述光源单元用于向所述光调制单元发射宽谱光束；所述光调制单元用于依次选择所述宽谱光束中的宽谱线光束并将所述宽谱线光束传递至所述投影物镜单元；所述投影物镜单元用于接收所述宽谱线光束并照射至样品，收集样品反射光；所述分光单元用于接收所述反射光进行色散处理，并检测色散处理后的二维光信号。基于投影技术和光谱分光技术相结合获取垂直安放的壁画等样品的高光谱信息，既可以提供样品空间形态分布，又能够提供成像视场内精确到像素点的样品光谱信息，可以辅助进行颜料识别、分析、结果的可视化以及后处理，为壁画等组分分析提供新的实验平台。

技术领域

本发明实施例涉及光学技术领域，尤其涉及一种投影高光谱系统。

背景技术

高光谱成像技术是集图像分析技术和光谱分析技术于一身，其基于非常多窄波段的影像数据技术，它将成像技术与光谱技术相结合，探测目标的二维几何空间及一维光谱信息，获取高光谱分辨率的连续、窄波段的图像数据。高光谱成像系统以其非接触式、光谱分辨率的优势，在对各种物体的定性与定量方面发挥了巨大的优势，弥补了人工对某种物体的定性与定量花费时间长的缺点；图像分析技术由于计算机技术的飞速发展，图像分析技术得到了很好的应用发展，已经应用在工业、检测、遥感、计算机、军事等技术中；光谱分析技术近年来也有迅速的发展，特别是近红外光谱仪器相继在很多领域得到广泛应用。高光谱成像技术是近二十年发展起来的基于非常多窄波段的影像数据技术，是传统的二维成像技术和光谱技术的有机结合。。

现有技术中的高光谱成像系统主要由面阵相机、分光设备、光源、传输机构及计算机软硬件等五部分构成。光源是高光谱成像系统的一个重要部分，它为整个成像系统提供照明；分光设备是高光谱成像系统的核心元件之一，分光设备通过光学元件把宽波长的混合光分散为不同频率的单波长光，并把分散光投射到面阵相机上；相机是高光谱成像系统的另一个核心元件，光源产生的光与被检测对象作用后成为物理或化学信息的载体，然后通过分光元件投射到面阵相机；计算机软件和硬件用来控制高光谱成像系统采集数据，针对特定的应用进行图像和光谱数据的处理与分析。

但是对于竖直的壁画等样品，现有技术中的高光谱系统结构复杂，且难以进行成像，扫描式高光谱成像系统通常会带来场曲畸变，为后来的图像拼接等处理造成比较大的困难。

发明内容

本发明实施例提供一种投影高光谱系统，用以解决现有技术中高光谱系统结构复杂，且对于竖直的壁画等样品难以进行成像的问题。

本发明实施例提供一种投影高光谱系统，包括光源单元、光调制单元、分光单元和投影物镜单元；

所述光源单元用于向所述光调制单元发射宽谱光束；

所述光调制单元用于依次选择所述宽谱光束中的宽谱线光束并将所述宽谱线光束传递至所述投影物镜单元；

所述投影物镜单元用于接收所述宽谱线光束并照射至样品，收集样品反射光；

所述分光单元用于接收所述反射光进行色散处理，并检测色散处理后的二维光信号。

本发明实施例提供的投影高光谱系统，通过将基于DMD或TIR的投影技术和光谱分光技术相结合获取垂直安放的壁画等样品的高光谱信息，既可以提供样品空间形态分布，又能够提供成像视场内精确到像素点的样品光谱信息，可以辅助进行颜料识别、分析、结果的可视化以及后处理，为壁画等组分分析提供新的实验平台。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例的投影高光谱系统结构框图；