[发明专利]平面光学元件亚表面损伤检测方法在审
| 申请号： | 201810318041.3 | 申请日： | 2018-04-10 |
| 公开（公告）号： | CN108515460A | 公开（公告）日： | 2018-09-11 |
| 发明（设计）人： | 李平;金滩;刘安民;陈思羽;吴远志 | 申请（专利权）人： | 湖南工学院 |
| 主分类号： | B24B49/12 | 分类号： | B24B49/12;B24B13/00;G01B11/22;G01B21/18;C03C15/00;B24C1/04 |
| 代理公司： | 长沙星耀专利事务所(普通合伙) 43205 | 代理人： | 许伯严 |
| 地址： | 421002 湖*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 平面光学元件亚表面损伤检测方法，包括：步骤一、采用定向磨料液体射流在平面光学元件表面制作观测斜面，观测斜面贯入平面光学元件的深度应当足以暴露亚表面裂纹；步骤二、用氢氟酸溶液蚀刻观测斜面，使得平面光学元件沿观测斜面方向的亚表面裂纹层充分暴露以便观测；步骤三、借助轮廓仪的扫描功能测量观测斜面的轮廓曲线，得出水平面与该观测斜面之间的夹角值；步骤四、借助超景深光学显微镜的微动平台和清晰成像功能获取沿观测斜面方向的亚表面裂纹分布情况，确定最终裂纹消失时微动平台移动的总距离；步骤五、结合步骤四中得到的最终裂纹消失时微动平台移动的总距离和步骤三中得出的水平面与该观测斜面之间的夹角值计算亚表面裂纹深度值。 | ||
| 搜索关键词： | 观测 平面光学元件 亚表面 微动平台 亚表面损伤检测 斜面方向 总距离 蚀刻 光学显微镜 氢氟酸溶液 测量观测 功能获取 轮廓曲线 磨料液体 清晰成像 扫描功能 裂纹层 暴露 移动 贯入 景深 射流 制作 | ||
【主权项】：
1.平面光学元件亚表面损伤检测方法，包括以下步骤：步骤一、采用定向磨料液体射流在精磨后的平面光学元件表面制作观测斜面，所述观测斜面贯入平面光学元件的深度应当足以暴露亚表面裂纹；步骤二、用氢氟酸溶液蚀刻所述观测斜面，使得所述平面光学元件沿观测斜面方向的亚表面裂纹层充分暴露以便观测；步骤三、借助轮廓仪的扫描功能测量所述观测斜面的轮廓曲线，得出水平面与该观测斜面之间的夹角值；步骤四、借助超景深光学显微镜的微动平台和清晰成像功能获取沿观测斜面方向的亚表面裂纹分布情况，确定最终裂纹消失时微动平台移动的总距离；步骤五、结合步骤四中得到的最终裂纹消失时微动平台移动的总距离和步骤三中得出的水平面与该观测斜面之间的夹角值计算亚表面裂纹深度值。
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