[发明专利]一种珩磨式磁流变抛光方法及装置在审
申请号: | 201810292040.6 | 申请日: | 2018-04-03 |
公开(公告)号: | CN108581640A | 公开(公告)日: | 2018-09-28 |
发明(设计)人: | 修世超;石沛;牛天荧;宋万里;李红亮 | 申请(专利权)人: | 东北大学 |
主分类号: | B24B1/00 | 分类号: | B24B1/00;B24B51/00 |
代理公司: | 沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21234 | 代理人: | 张志伟 |
地址: | 110169 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本发明涉及抛光设备和工艺领域,特别是一种珩磨式磁流变抛光方法及装置。抛光头内置电磁铁,在抛光头外表面形成高梯度磁场,磁流变抛光液从抛光头内腔流出在磁场作用下,迅速流变成具有黏塑性的Bingham介质,通过调整励磁电流的大小可调节磁场作用下磁流变抛光液的剪切屈服强度以及对工件表面的压力;抛光头由调速电机驱动作高速旋转运动,工件在滚珠丝杠的带动下作往复直线运动,通过抛光头与工件的相对运动实现对工件表面的材料去除;流经抛光区域的磁流变抛光液经由收集装置收集起来,经过过滤杂质、补充水分、充分搅拌后,继续参与磁流变抛光过程。采用本发明抛光均匀性好,适用于不锈钢、陶瓷、钛合金等非导磁管件内壁的高效抛光。 | ||
搜索关键词: | 抛光头 磁流变抛光液 磁流变抛光 磁场作用 工件表面 抛光 珩磨 电磁铁 调速电机驱动 高速旋转运动 往复直线运动 高梯度磁场 抛光均匀性 材料去除 非导磁管 工艺领域 滚珠丝杠 剪切屈服 励磁电流 抛光区域 抛光设备 收集装置 可调节 钛合金 面形 内壁 内腔 内置 不锈钢 过滤 流出 陶瓷 补充 | ||
【主权项】:
1.一种珩磨式磁流变抛光方法,其特征在于:抛光头内置电磁铁,在抛光头外表面形成高梯度磁场,磁流变抛光液从抛光头内腔流出在磁场作用下,迅速流变成具有黏塑性的Bingham介质,通过调整励磁电流的大小可调节磁场作用下磁流变抛光液的剪切屈服强度以及对工件表面的压力;抛光头由调速电机驱动作高速旋转运动,工件在滚珠丝杠的带动下作往复直线运动,通过抛光头与工件的相对运动实现对工件表面的材料去除;流经抛光区域的磁流变抛光液经由收集装置收集起来,经过过滤杂质、补充水分、充分搅拌后,继续参与磁流变抛光过程。
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