[发明专利]一种高效率制备环状纳米间隙有序阵列的方法有效
| 申请号： | 201810270664.8 | 申请日： | 2018-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN108502840B | 公开（公告）日： | 2020-08-28 |
| 发明（设计）人： | 蔡洪冰;赵慧;王晓平;罗毅 | 申请（专利权）人： | 中国科学技术大学 |
| 主分类号： | B81B1/00 | 分类号： | B81B1/00;B81B7/04;B81C1/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 赵青朵 |
| 地址： | 230026 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种高效率制备环状纳米间隙有序阵列的方法，包括以下步骤：A)在衬底表面沉积一层酸不溶性薄膜；B)在所述酸不溶性薄膜表面自组装小球单层有序膜；C)采用反应离子刻蚀所述小球单层有序膜，得到粒径减小的小球；D)采用氩离子刻蚀所述粒径减小的小球间的、步骤A)所述的酸不溶性薄膜；E)通过单原子层沉积技术在步骤D)得到的产物表面沉积一层酸溶性薄膜；F)在所述步骤E)得到的产物表面沉积一层与步骤A)中厚度相同的酸不溶性薄膜；G)用酸溶液刻蚀掉步骤F)得到的产物表面的酸溶性薄膜，用溶剂去除所述粒径减小的小球，得到环状纳米间隙有序阵列。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 高效率 制备 环状 纳米 间隙 有序 阵列 方法 | ||
【主权项】：
1.一种高效率制备环状纳米间隙有序阵列的方法，其特征在于，包括以下步骤：A)在衬底表面沉积一层酸不溶性薄膜；B)在所述酸不溶性薄膜表面自组装小球单层有序膜；C)采用反应离子刻蚀所述小球单层有序膜，得到粒径减小的小球；D)以粒径减小的小球作为掩膜版，采用氩离子刻蚀所述粒径减小的小球间的、步骤A)所述的酸不溶性薄膜；E)通过单原子层沉积技术在步骤D)得到的产物表面沉积一层酸溶性薄膜；F)在所述步骤E)得到的产物表面沉积一层与步骤A)中厚度相同的酸不溶性薄膜；G)用酸溶液刻蚀掉步骤F)得到的产物表面的酸溶性薄膜，用溶剂去除所述粒径减小的小球，得到环状纳米间隙有序阵列。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学技术大学，未经中国科学技术大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810270664.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种羽绒被充绒设备
- 下一篇：一种能够实现超声波传感的电子设备及其制造方法
