[发明专利]等离子体生成单元以及包括其的基板处理装置有效
| 申请号： | 201810257607.6 | 申请日： | 2018-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN108695132B | 公开（公告）日： | 2021-03-19 |
| 发明（设计）人： | 奥格森·加尔斯强;李贞焕;安宗奂;南信祐 | 申请（专利权）人： | 细美事有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人： | 张海英 |
| 地址： | 韩国忠清*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了等离子体生成单元和包括其的基板处理装置。基板处理装置包括：处理室，该处理室在其内部具有处理空间；基板支撑单元，其构造为支撑处理空间中的基板；气体供给单元，其构造为将处理气体供给到处理空间；以及等离子体生成单元，其布置在处理室的外部并且构造为使处理室中的处理气体生成等离子体，其中等离子体生成单元包括：天线单元，其包括构造为使处理气体生成等离子体的多个天线线圈；以及磁结构，其包括布置在多个天线线圈之间的磁壁，其中天线单元包括具有环形形状的第一天线线圈，以及布置在第一天线线圈外侧且具有环形形状的第二天线线圈。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 生成 单元 以及 包括 处理 装置 | ||
【主权项】：
1.一种基板处理装置，该基板处理装置包括：处理室，该处理室在其内部具有处理空间；基板支撑单元，其构造为支撑所述处理空间中的基板；气体供给单元，其构造为将处理气体供给到所述处理空间中；以及等离子体生成单元，其布置在所述处理室的外部并且构造为使所述处理室中的所述处理气体生成等离子体，其中所述等离子体生成单元包括：天线单元，其包括构造为使所述处理气体生成等离子体的多个天线线圈；以及磁结构，其包括布置在所述多个天线线圈之间的磁壁，并且其中所述天线单元包括：具有环形形状的第一天线线圈；以及布置在所述第一天线线圈外侧并且具有环形形状的第二天线线圈。
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