[发明专利]一种光刻胶的制备方法，光刻胶及滤光片在审
| 申请号： | 201810234812.0 | 申请日： | 2018-03-21 |
| 公开（公告）号： | CN108508701A | 公开（公告）日： | 2018-09-07 |
| 发明（设计）人： | 于晓平 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/027 | 分类号： | G03F7/027;G03F7/004;G03F7/075;G02B5/22 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人： | 钟子敏 |
| 地址： | 518006 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种光刻胶的制备方法，该制备方法包括：制备获得颜料溶液；将包括引发剂基团的硅烷偶联剂加入颜料溶液中，进行水解缩聚反应；或者将颜料溶液与包括引发剂基团的分散剂混合，进行分散处理；将水解缩聚反应或分散处理后的颜料溶液与光反应单体进行混合以得到光刻胶；其中，引发剂基团用于引发光反应单体的聚合反应。通过上述制备方法，可以制备得到具有良好感度及稳定性的光刻胶。 | ||
| 搜索关键词： | 制备 光刻胶 颜料溶液 引发剂 水解缩聚反应 光反应单体 分散处理 硅烷偶联剂 聚合反应 分散剂 滤光片 感度 申请 | ||
【主权项】：
1.一种光刻胶的制备方法，其特征在于，所述方法包括：制备获得颜料溶液；将包括引发剂基团的硅烷偶联剂加入所述颜料溶液中，进行水解缩聚反应；或者，将颜料溶液与包括引发剂基团的分散剂混合，进行分散处理；将水解缩聚反应或分散处理后的颜料溶液与光反应单体进行混合以得到所述光刻胶；其中，所述引发剂基团用于引发所述光反应单体的聚合反应。
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