[发明专利]一种光刻胶的制备方法，光刻胶及滤光片

权利要求书

1.一种光刻胶的制备方法，其特征在于，所述方法包括：

制备获得颜料溶液；

将包括引发剂基团的硅烷偶联剂加入所述颜料溶液中，进行水解缩聚反应；

或者，将颜料溶液与包括引发剂基团的分散剂混合，进行分散处理；

将水解缩聚反应或分散处理后的颜料溶液与光反应单体进行混合以得到所述光刻胶；

其中，所述引发剂基团用于引发所述光反应单体的聚合反应。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述方法进一步包括：

将硅烷偶联剂与引发剂合成得到包括引发剂基团的硅烷偶联剂；

或者，将分散剂与引发剂合成得到包括引发剂基团的分散剂。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述引发剂基团包括光引发剂基团或助引发剂基团；所述光引发剂基团包括不饱和键，所述助引发剂基团包括叔胺类基团。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述制备获得颜料溶液，包括：

利用聚电解质对颜料进行处理，以获得颜料溶液，所述颜料溶液中颜料的表面带有正电荷。

5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述利用聚电解质对颜料进行处理，包括：

将颜料与PSS和去离子水混合，使所述颜料表面带有负电荷；

然后将表面带有负电荷的颜料溶解在PDDA溶液中，使得所述颜料表面带有正电荷。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述将硅烷偶联剂加入所述颜料溶液中，包括：

将氨溶液和硅烷偶联剂混合后加入所述颜料溶液中。

7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述将硅烷偶联剂加入所述颜料溶液中，进行水解缩聚反应，包括：

将硅烷偶联剂加入所述颜料溶液中，在常温下进行水解缩聚反应10～30小时。

8.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述将水解缩聚反应或分散处理后的颜料溶液与光反应单体进行混合以得到所述光刻胶，包括：

将水解缩聚反应或分散处理后的颜料溶液与光反应单体、树脂、开始剂、添加剂以及溶剂进行混合以得到所述光刻胶。

9.一种光刻胶，其特征在于，所述光刻胶包括颜料和光反应单体，进一步包括具有引发剂基团的硅氧聚合物或分散剂，其中所述引发剂基团用于引发所述光反应单体的聚合反应。

10.一种滤光片，其特征在于，所述滤光片由权利要求9中所述的光刻胶制得。