[发明专利]用于修补平面沉积膜层的自吸式磁控溅射系统及溅射方法

摘要

用于修补平面沉积膜层的自吸式磁控溅射系统及溅射方法，它涉及一种磁控溅射系统及溅射方法。本发明为了解决现有的大型平面结构件表面膜层发生脱落、起皮等现象后，存在不易进行再次镀膜修复，直接影响到结构件或是功能件的寿命和功能性的问题。本发明包括真空室组件、磁控靶挡板组件和磁控靶组件，磁控靶挡板组件通过控制第一手轮的旋转，使得挡板轴运动，同时万向节发生运动带动挡板的左右运动，实现遮挡溅射辉光的作用；磁控靶通过直靶支杆和靶支座固定在真空室桶内，采用屏蔽靶套套在永磁靶头上，防止溅射过程中辉光收到外界环境干扰。溅射方法包括准备工作、抽真空、起辉、镀膜修补和取下系统。本发明用于修补平面沉积膜层中。

主权项

1.一种用于修补平面沉积膜层的自吸式磁控溅射系统，其特征在于：它包括真空室组件、磁控靶挡板组件和磁控靶组件，真空室组件包括真空室桶A1、把手A2、观察窗A3、直角进气阀A4、直角放气阀A5、磁悬浮分子泵A6、橡胶皮碗A7、真空室接头A8、有机玻璃罩A9和真空室堵盖A10，真空室桶A1的外侧壁上部安装有把手A2，真空室桶A1的外侧壁下部安装有观察窗A3，真空室桶A1的外侧壁上分别连接有直角进气阀A4和直角放气阀A5分别用于背景气体和反应气体的输入以及沉积完毕后大气的充入，磁悬浮分子泵A6通过接管与真空室桶A1连接控制真空室内的气压，橡胶皮碗A7通过真空室接头A8与真空室桶A1的下端连接，有机玻璃罩A9通过真空室堵盖A10安装在真空室桶A1的上端；磁控靶挡板组件包括第一手轮B1、挡板轴B2、万向节B3和挡板B4，第一手轮B1安装在有机玻璃罩A9的外部上端，挡板轴B2的上端穿过有机玻璃罩A9与第一手轮B1连接，挡板轴B2的下端穿过真空室堵盖A10与万向节B3的一端连接，万向节B3的另一端与挡板B4连接；磁控靶组件包括直靶支杆C1、靶支座C2、永磁靶头C3、屏蔽靶套C5和靶头升降组件，直靶支杆C1安装在有机玻璃罩A9内，靶支座C2安装在直靶支杆C1上并位于真空室堵盖A10上，永磁靶头C3与直靶支杆C1的末端，屏蔽靶套C5套装在永磁靶头C3上防止溅射过程中辉光受到外界环境干扰，靶头升降组件带动永磁靶头C3实现升降动作。