[发明专利]一种晶体水冷结构装置在审
| 申请号： | 201810216205.1 | 申请日： | 2018-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN108258570A | 公开（公告）日： | 2018-07-06 |
| 发明（设计）人： | 沈奇;颜美晨;崔星洋;彭承志;陈宇翱;潘建伟 | 申请（专利权）人： | 中国科学技术大学 |
| 主分类号： | H01S3/042 | 分类号： | H01S3/042;H01S3/04;H01S3/02 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 李坤 |
| 地址： | 230026 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本公开提供了一种晶体水冷结构装置，应用于高功率全固态激光器，包括固定在一起的上结构与下结构，上结构与下结构配合形成晶体放置处，用于固定晶体，上结构与下结构分别进行水循环，下结构开有激光通孔，用于吸收未被晶体吸收的残余泵浦光。本公开通过采用逐渐变窄的激光通孔，使得未被晶体吸收的残余泵浦光在通孔内最大被吸收，让残余泵浦光尽量少的影响后面的光路，大大减低了后面光学元件的热效应现象，并将由此产生的热量从下结构矩形块部分传递给下结构梯形块部分，通过水冷将热量散发掉，而对晶体控温的影响几乎可以忽略。相比于加冷却装置(风冷、水冷)控制腔内温度，该方式对激光器的其他结构没有影响，不增加激光器的体积与复杂性。 | ||
| 搜索关键词： | 泵浦光 激光通孔 结构装置 晶体吸收 激光器 晶体水 水冷 热效应 高功率全固态激光器 固定晶体 光学元件 结构配合 冷却装置 热量散发 逐渐变窄 放置处 矩形块 控制腔 水循环 梯形块 风冷 光路 控温 通孔 吸收 传递 应用 | ||
【主权项】：
1.一种晶体水冷结构装置，应用于高功率全固态激光器，包括：固定在一起的上结构与下结构，所述上结构与下结构配合形成晶体放置处，用于固定晶体，所述上结构与所述下结构分别进行水循环，所述下结构开有激光通孔，用于吸收未被所述晶体吸收的残余泵浦光。
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