[发明专利]一种晶体水冷结构装置在审

专利信息
申请号: 201810216205.1 申请日: 2018-03-15
公开(公告)号: CN108258570A 公开(公告)日: 2018-07-06
发明(设计)人: 沈奇;颜美晨;崔星洋;彭承志;陈宇翱;潘建伟 申请(专利权)人: 中国科学技术大学
主分类号: H01S3/042 分类号: H01S3/042;H01S3/04;H01S3/02
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 李坤
地址: 230026 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 泵浦光 激光通孔 结构装置 晶体吸收 激光器 晶体水 水冷 热效应 高功率全固态激光器 固定晶体 光学元件 结构配合 冷却装置 热量散发 逐渐变窄 放置处 矩形块 控制腔 水循环 梯形块 风冷 光路 控温 通孔 吸收 传递 应用
【说明书】:

本公开提供了一种晶体水冷结构装置,应用于高功率全固态激光器,包括固定在一起的上结构与下结构,上结构与下结构配合形成晶体放置处,用于固定晶体,上结构与下结构分别进行水循环,下结构开有激光通孔,用于吸收未被晶体吸收的残余泵浦光。本公开通过采用逐渐变窄的激光通孔,使得未被晶体吸收的残余泵浦光在通孔内最大被吸收,让残余泵浦光尽量少的影响后面的光路,大大减低了后面光学元件的热效应现象,并将由此产生的热量从下结构矩形块部分传递给下结构梯形块部分,通过水冷将热量散发掉,而对晶体控温的影响几乎可以忽略。相比于加冷却装置(风冷、水冷)控制腔内温度,该方式对激光器的其他结构没有影响,不增加激光器的体积与复杂性。

技术领域

本公开涉及激光技术及应用领域,特别是涉及应用在高功率激光器内部的晶体水冷冷却装置。

背景技术

端面泵浦的全固态激光器具有高效率、结构紧凑、光束输出质量好、稳定性高和成本较低等诸多优点,但是激光器内部结构中的热效应现象影响激光器的输出质量,制约着激光输出的最大功率,尤其是在高功率激光器中,热效应现象尤为重要。

激光腔内涉及的热效应主要分两部分。一来自晶体,泵浦光沿晶体轴向方向通过,被逐渐吸收,泵浦光密度逐渐降低,导致晶体在轴向热分布不均匀,其泵浦端面热密度最大,而非泵浦端面热密度最小。这样一方面晶体在泵浦端面处容易因热张力过大损伤断裂,另一方面由于热横向分布不均匀性形成晶体热透镜效应,使得激光腔不稳定。研究人员已经采取了一些方法改善上述效应,包括双端泵浦,反射镜二次回泵,双波长双端泵浦等。二来自激光器内部其他光学元件。虽然泵浦光通过被晶体时,被吸收了绝大部分,然而总是有多余的泵浦光存在。这些光在腔内传播,对其他的光学元件进行加热,导致激光器内部温度的不稳定,使得光学元件的性质被改变,使得激光功率不稳定。尤其是在高功率、一体化激光器中影响重大。针对这个问题,人们常用的方法是加冷却装置(风冷、水冷),控制腔内温度。如专利CN204905650U提出了水冷管路与激光器箱体一体成型的水冷激光器。然而这些装置都大大增加了激光器的体积质量以及复杂性。

公开内容

(一)要解决的技术问题

针对以上第二种热效应问题,本公开提出了一种晶体水冷结构装置,该装置在对晶体控温的同时,尽可能的减少残余泵浦光的通过,从而改善光学元件的热效应,提高输出激光功率,获得高质量激光光束输出。

(二)技术方案

本公开提供了一种晶体水冷结构装置,应用于高功率全固态激光器,包括:固定在一起的上结构与下结构,所述上结构与下结构配合形成晶体放置处,用于固定晶体,所述上结构与所述下结构分别进行水循环,所述下结构开有激光通孔,用于吸收未被所述晶体吸收的残余泵浦光。

在本公开的一些实施例中,所述上结构分为上部梯形块与下部结构块,所述上部梯形块与所述下部结构块的结合处形成一倒台阶;所述下结构分为底块、以及所述底块上的梯形块和矩形块,所述梯形块的斜面与直面的结合处形成一台阶,所述倒台阶与所述台阶形成所述晶体放置处。

在本公开的一些实施例中,所述上部梯形块开有第一沉头直孔和第二沉头直孔,所述下部结构块的直面开有第三沉头直孔和第四沉头直孔;所述下部结构块分为本体块和凸出块,所述凸出块分为梯形块和矩形块前后两部分,所述梯形块的斜面开有第一螺纹孔、第二螺纹孔,所述梯形块的直面开有第三螺纹孔和第四螺纹孔,所述上结构和下结构通过螺钉、所述沉头直孔和所述螺纹孔固定在一起。

在本公开的一些实施例中,所述上结构内部为空腔,所述本体块开有水冷进水口和水冷出水口,冷却水通过所述水冷进水口进入所述空腔,并由所述水冷出水口从所述空腔流出,实现水冷循环。

在本公开的一些实施例中,所述下结构内部为空腔,所述底块开有水冷进水口和水冷出水口,冷却水通过所述水冷进水口进入所述空腔,并由所述水冷出水口从所述空腔流出,实现水冷循环。

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