[发明专利]一种晶硅异质结双面太阳电池结构在审
| 申请号: | 201810198908.6 | 申请日: | 2018-03-12 |
| 公开(公告)号: | CN108336178A | 公开(公告)日: | 2018-07-27 |
| 发明(设计)人: | 袁吉仁;周浪;黄海宾;高超;岳之浩 | 申请(专利权)人: | 南昌大学 |
| 主分类号: | H01L31/0747 | 分类号: | H01L31/0747 |
| 代理公司: | 南昌新天下专利商标代理有限公司 36115 | 代理人: | 施秀瑾 |
| 地址: | 330031 江西省*** | 国省代码: | 江西;36 |
| 权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
| 摘要: | 一种晶硅异质结双面太阳电池结构,以n型晶体硅片作为基底,发射极面分为发射极‑导电区域和钝化‑进光区域:前者由本征非晶硅钝化层、重掺杂p型非晶硅层、金属栅线I构成,后者由重掺杂p型晶体硅场钝化层I、钝化减反射层I构成;背电场面分为钝化‑进光区域和背电场‑导电区域:前者由重掺杂n型晶体硅层II、钝化减反射层II构成;后者由重掺杂n型晶体硅层II、金属栅线II构成。本发明保持了双面进光特性,同时获得高开路电压和高短路电流的特性,提高了晶体硅太阳电池的发电能力。相比于HIT和HAC‑D结构完全避免贵重的透明导电氧化物的使用,同时减少了载流子在TCO上传输所造成的串联电阻损耗。 | ||
| 搜索关键词: | 重掺杂 钝化 双面太阳电池 导电区域 硅异质结 减反射层 金属栅线 背电场 光区域 种晶 载流子 晶体硅太阳电池 透明导电氧化物 本征非晶硅 串联电阻 短路电流 发电能力 发射极面 开路电压 场钝化 钝化层 发射极 光特性 基底 传输 | ||
【主权项】:
1.一种晶硅异质结双面太阳电池结构,其特征是以n型晶体硅片(6)作为基底,其发射极面分为发射极‑导电区域和钝化‑进光区域:发射极‑导电区域由基底向外依次由本征非晶硅钝化层(3)、重掺杂p型非晶硅层(2)、金属栅线I(1)构成,钝化‑进光区域由基底向外依次由重掺杂p型晶体硅场钝化层I(5)、钝化减反射层I(4)构成,这两个区域交叉分布且不重叠;其背电场面结构:分为钝化‑进光区域和背电场‑导电区域:钝化‑进光区域由基底向外依次为重掺杂n型晶体硅层II(7)、钝化减反射层II(8);背电场‑导电区域由基底向外依次为重掺杂n型晶体硅层II(7)、金属栅线II(9),这两个区域交叉分布且不重叠。
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H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
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