[发明专利]一种防水镜片镀膜方法

摘要

本发明公开一种防水镜片镀膜方法，制造方法是在高分子树脂材料成型的基片外表面和内表面分别蒸镀膜系形成防蓝光光学镜片，制造方法具体包括以下步骤：1）对基片进行清洗；2）基片清洗后的干燥：3）基片镀膜前在真空蒸镀机的真空舱内的再次清洗：4）基片的镀膜：基片的镀膜包括在基片的外表面镀膜系和在基片的内表面镀膜系。本发明制造出来的防蓝光光学镜片具有防止有害蓝光和紫外线对人体的伤害，该防蓝光光学镜片同时还具有防水和自主光学调控的功能。

主权项

1.一种防水镜片镀膜方法，其包括在基片外表面和内表面分别蒸镀膜系形成防水光学镜片，其特征在于：所述镀膜方法具体包括以下步骤：1）对基片进行清洗；2）基片清洗后的干燥：将清洗后的基片用异丙醇脱干，脱干后的基片采用异丙醇慢拉干燥，再置于无尘镀膜恒温烤箱中于 60℃～ 75℃烘烤8 小时以上；3）加硬处理：将镜片基片浸入甲基硅树脂强化溶液中，加硬处理温度115‑125℃，2小时后将镜片基片取出并送至烘干箱内干燥固化，烘干温度120℃，固化时间60分钟；4）退火处理：将加硬处理后的镜片进行退火处理：5）二次清洗：将退火处理后的镜片基片置于真空镀膜舱内，用霍尔离子源对镜片基片进行离子轰击3‑5分钟；6）基片的镀膜：基片的镀膜包括在基片的外表面镀膜系和在基片的内表面镀膜系；A、基片的外表面镀膜系依序包括镀抗冲击强化膜层、镀抗紫外线膜层、镀防蓝光膜层、镀光学调控膜层、镀防水膜层；A1、镀抗冲击强化膜层：将真空舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10‑3帕，采用电子枪，将抗冲击强化膜层的膜材进行蒸发后，在离子源的作用下所述膜材以纳米级分子形式沉积于基片外表面，形成抗冲击强化膜层，抗冲击强化膜层的厚度为50‑100纳米；所述抗冲击强化膜层的膜材为氧化硅；A2、镀抗紫外线膜层：将真空舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10‑3帕，采用电子枪将抗紫外线膜层的膜材进行蒸发后，在离子源的作用下所述膜材以纳米级分子形式沉积于步骤A1中抗冲击强化膜层的表面，形成抗紫外线膜层，抗紫外线膜层的厚度为10‑50纳米；所述抗紫外线膜层的膜材包括以下重量比组分的混合物：氧化硅20%‑80%；氧化锆20%‑80%；A3、镀防蓝光膜层：将真空舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10‑3帕，采用电子枪将防蓝光膜层的膜材进行蒸发后，在离子源的作用下所述膜材以纳米级分子形式沉积于步骤A2中抗紫外线膜层的表面，形成防蓝光膜层，防蓝光膜层的厚度为5‑20纳米；所述防蓝光膜层的膜材包括以下重量比组分的混合物：氧化锡30%‑60%；铷10%‑40%；铂10%‑40%；重复步骤A3至少一次以上，形成两层以上相互堆叠的防蓝光膜层；A4、镀光学调控膜层：采用电子枪将光学调控膜层的膜材进行蒸发后，在离子源的作用下所述膜材以纳米级分子形式沉积于步骤A3中防蓝光膜层的表面，形成光学调控膜层，光学调控膜层的厚度为20‑100纳米；所述光学调控膜层的膜材包括以下重量比组分的混合物：铝40%‑60%；氧化硅40%‑60%；A5、镀防水膜层：保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10‑3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50‑70℃，采用霍尔离子源轰击蜜蜡，蜜蜡蒸发后以纳米级分子形式沉积于第五膜层的外表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为7Å/S，第六膜层形成后的厚度为60‑100nm，最终形成蜜蜡防水膜层；防水膜层镀膜完成，基片的外表面镀膜系完成后，转入基片的内表面镀膜系；B、基片的内表面镀膜系依序包括镀抗冲击强化膜层、镀抗紫外线膜层、镀防蓝光膜层、镀防水膜层；B1、镀抗冲击强化膜层：采用电子枪，将抗冲击强化膜层的膜材进行蒸发后，在离子源的作用下所述膜材以纳米级分子形式沉积于基片内表面，形成抗冲击强化膜层，抗冲击强化膜层的厚度为50‑100纳米；所述抗冲击强化膜层的膜材为氧化硅；B2、镀抗紫外线膜层：采用电子枪将抗紫外线膜层的膜材进行蒸发后，在离子源的作用下所述膜材以纳米级分子形式沉积于步骤A1中抗冲击强化膜层的表面，形成抗紫外线膜层，抗紫外线膜层的厚度为10‑50纳米；所述抗紫外线膜层的膜材包括以下重量比组分的混合物：氧化硅20%‑80%；氧化锆20‑80%；重复步骤B2至少一次以上，形成两层以上相互堆叠的抗紫外线膜层；B3、镀防蓝光膜层：采用电子枪将防蓝光膜层的膜材进行蒸发后，在离子源的作用下所述膜材以纳米级分子形式沉积于步骤B2中抗紫外线膜层的表面，形成防蓝光膜层，防蓝光膜层的厚度为5‑20纳米；所述防蓝光膜层的膜材包括以下重量比组分的混合物：氧化锡30%‑60%；铷10%‑40%；铂10%‑40%；重复步骤B3至少一次以上，形成两层以上相互堆叠的防蓝光膜层；B4、镀防水膜层：保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10‑3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50‑70℃，采用霍尔离子源轰击蜜蜡，蜜蜡蒸发后以纳米级分子形式沉积于第五膜层的外表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为7Å/S，第六膜层形成后的厚度为60‑100nm，最终形成蜜蜡防水膜层。