[发明专利]一种激光清洗用辅助涂层配方和涂覆清洗工艺在审
| 申请号： | 201810179674.0 | 申请日： | 2018-03-05 |
| 公开（公告）号： | CN108467664A | 公开（公告）日： | 2018-08-31 |
| 发明（设计）人： | 戴峰泽;周文广;周建忠 | 申请（专利权）人： | 江苏大学 |
| 主分类号： | C09D163/10 | 分类号： | C09D163/10;C09D183/04;C09D7/61;C09D7/65;B05D3/06;B05D7/24 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 212013 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种激光清洗用辅助涂层配方和涂覆清洗工艺，辅助涂层主要成分包括丙烯酸环氧树脂、纳米硅酮粉、聚氨酯匀泡剂和纳米碳粉颗粒。辅助涂层的涂敷工艺主要包括以下步骤：第一步，将丙烯酸环氧树脂、纳米硅酮粉、聚氨酯匀泡剂和纳米碳粉颗粒按比例均匀混合；第二步，将均匀混合的辅助涂层均匀涂覆在待处理工件表面；第三步，将涂覆有辅助涂层的待处理工件放入去离子水中，加压至2～3MPa，同时用紫外线辐照烘干辅助涂层；第四步，将工件从去离子水中取出吹干备用。第五步，采用脉冲激光辐照在辅助涂层表面，清洗整个硅片表面，将固化在辅助涂层内部的颗粒污物随辅助涂层一起从硅片表面清除。本发明可应用于集成电路板硅片表面的颗粒污物清除。 | ||
| 搜索关键词： | 辅助涂层 硅片表面 涂覆 丙烯酸环氧树脂 待处理工件 激光清洗 颗粒污物 纳米碳粉 清洗工艺 硅酮粉 聚氨酯 匀泡剂 水中 离子 配方 脉冲激光辐照 集成电路板 紫外线辐照 均匀涂覆 烘干 吹干 放入 固化 涂敷 备用 加压 清洗 取出 应用 | ||
【主权项】：
1.一种激光清洗用辅助涂层配方，其特征在于，所述涂层配方成份为丙烯酸环氧树脂、纳米硅酮粉、聚氨酯匀泡剂和纳米碳粉颗粒，其中丙烯酸环氧树脂的体积含量为60‑70％，纳米硅酮粉的体积含量为5‑8％，聚氨酯匀泡剂的体积含量为6‑8％，纳米碳粉颗粒的体积含量为20‑25％。
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