[发明专利]光刻机照明系统的微反射镜阵列配置方法有效

专利信息
申请号: 201810147304.9 申请日: 2018-02-12
公开(公告)号: CN108227406B 公开(公告)日: 2020-04-03
发明(设计)人: 杨朝兴;王向朝;李思坤 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 代理人: 张宁展
地址: 201800 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种用于产生自由形式光刻机照明光源的光刻照明系统微反射镜阵列配置方法。该方法通过解卷积和量化处理得到产生目标自由形式光源所需的微反射镜阵列配置,提高了光刻照明系统获得自由形式照明光源的速度。
搜索关键词: 光刻 照明 系统 反射 阵列 配置 方法
【主权项】:
1.一种光刻机照明系统的微反射镜阵列配置方法,其特征在于包含以下步骤;步骤A,通过解卷积方法计算解卷积光源公式如下:其中,deconv为解卷积方法,tr为解卷积阈值,SRCtarget为照明系统使用者提供的目标光源的光强分布,PSF为照明系统微镜片光斑检测装置测量得到的光刻机照明系统微镜片光斑光强分布;步骤B,通过量化处理计算微反射镜阵列(MMA)的镜片分布公式如下:其中,为反射光斑中心在光瞳面(x,y)位置的微反射镜片数量,round为取整算符,Im为镜片光斑的中心光强,Nmirror为微反射镜片总数量;步骤C,根据得到MMA光源SRCMMA,公式如下:SRCMMA=conv(SRCmirror,PSF)其中,conv为卷积算符,Im为镜片光斑的中心光强,(xmirror,ymirror)为镜片光斑中心的光瞳面坐标;步骤D,计算目标光源SRCtarget与MMA光源SRCMMA之间的差异;步骤E,判断目标光源SRCtarget与MMA光源SRCMMA是否满足停止判据,如果不满足停止判据则修改上述步骤中的可调参数返回步骤A重新计算MMA镜片分布和MMA光源,如果满足停止判据则输出此时的MMA镜片分布和MMA光源。
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