[发明专利]光刻机照明系统的微反射镜阵列配置方法

权利要求书

1.一种光刻机照明系统的微反射镜阵列配置方法，其特征在于包含以下步骤；

步骤A，通过解卷积方法计算解卷积光源公式如下：

其中，deconv为解卷积方法，tr为解卷积阈值,SRC_target为照明系统使用者提供的目标光源的光强分布，PSF为照明系统微镜片光斑检测装置测量得到的光刻机照明系统微镜片光斑光强分布；

步骤B，通过量化处理计算微反射镜阵列(MMA)的镜片分布公式如下：

其中，为反射光斑中心在光瞳面(x,y)位置的微反射镜片数量，round为取整算符，I_m为镜片光斑的中心光强，N_mirror为微反射镜片总数量；

步骤C，根据得到MMA光源SRC_MMA，公式如下：

SRC_MMA＝conv(SRC_mirror,PSF)

其中，conv为卷积算符，I_m为镜片光斑的中心光强，(x_mirror,y_mirror)为镜片光斑中心的光瞳面坐标；

步骤D，计算目标光源SRC_target与MMA光源SRC_MMA之间的差异；

步骤E，判断目标光源SRC_target与MMA光源SRC_MMA是否满足停止判据，如果不满足停止判据则修改上述步骤中的可调参数返回步骤A重新计算MMA镜片分布和MMA光源，如果满足停止判据则输出此时的MMA镜片分布和MMA光源。

2.根据权利要求1所述的一种光刻机照明系统的微反射镜阵列配置方法，其特征在于所述步骤A的解卷积方法deconv具体是基于Lucy-Richardson方法的解卷积方法、基于Wiener滤波的解卷积方法或者是基于小波变换的解卷积方法和基于正则滤波的解卷积方法。

3.根据权利要求1所述的一种光刻机照明系统的微反射镜阵列配置方法,其特征在于步骤D计算目标光源SRC_target与MMA光源SRC_MMA之间的差异，具体是计算目标光源SRC_target与MMA光源SRC_MMA光强差值，公式如下：

其中(x_i,y_i)是目标光源SRC_target与MMA光源SRC_MMA的离散光源点的光瞳面坐标，N是离散光源点的总数量。

4.根据权利要求1所述的一种光刻机照明系统的微反射镜阵列配置方法,其特征在于步骤D计算目标光源SRC_target与MMA光源SRC_MMA之间的差异，具体是计算目标光源SRC_target与MMA光源SRC_MMA的光刻工艺窗口差异，公式如下：

其中PW_target和PW_MMA分别为用光刻仿真软件计算得到的目标光源SRC_target与MMA光源SRC_MMA的光刻工艺窗口。

5.根据权利要求1所述的一种光刻机照明系统的微反射镜阵列配置方法，其特征在于步骤E所述的停止判据，具体是目标光源SRC_target与MMA光源SRC_MMA的光强差值小于照明系统使用者提供的目标光源SRC_target与MMA光源SRC_MMA可接受的最大光强值。