[发明专利]发射光谱分析装置有效

专利信息
申请号: 201810144839.0 申请日: 2018-02-12
公开(公告)号: CN108469431B 公开(公告)日: 2020-12-18
发明(设计)人: 贝发达也 申请(专利权)人: 株式会社岛津制作所
主分类号: G01N21/67 分类号: G01N21/67
代理公司: 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 代理人: 肖华
地址: 日本国京都府京*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种即使是不熟练者也能以适当次数执行校正用标准试样的测定的发射光谱分析装置。在发射光谱分析装置中设置:计算部,其针对每个检测器,计算标准试样的多次测定中的测定值的偏差;判定部,其当对全部检测器而言所述偏差为容许值以内的情况下,判定为不需要进行标准试样的追加测定,当对某一个检测器而言所述偏差超过容许值的情况下,判定为需要进行标准试样的追加测定;通知部,其将判定部的判定结果通知给操作者;以及计算/判定控制部,其以在以规定次数进行了标准试样的测定的时刻进行所述偏差的计算及判定,在判定为需要进行追加测定的情况下,其后每进行1次追加测定就进行所述偏差的计算及判定的方式,控制计算部和判定部。
搜索关键词: 发射光谱分析 装置
【主权项】:
1.一种发射光谱分析装置,其对试样提供能量而使该试样激励发光,由多个检测器检测使该发射光进行波长色散而得到的多根谱线,所述发射光谱分析装置的特征在于,具有:a)计算单元,其计算各个所述多个检测器的、对于标准试样进行多次测定中的测定值的偏差;b)判定单元,当对所述多个检测器的全部而言所述偏差在预定的容许值以内的情况下,所述判定单元判定为不需要进行所述标准试样的追加测定,当对所述多个检测器中的至少一个检测器而言所述偏差超过所述容许值的情况下,所述判定单元判定为需要进行所述标准试样的追加测定;c)通知单元,其将所述判定单元的判定结果通知给操作者;以及d)控制单元,其以下述方式控制所述计算单元以及所述判定单元:在以预定的次数进行了所述标准试样的测定的时刻,进行由所述计算单元实施的偏差的计算以及由所述判定单元实施的判定,在通过该判定单元判定为需要进行追加测定的情况下,其后,每进行1次追加测定就进行由所述计算单元实施的偏差的计算以及由所述判定单元实施的判定。
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