[发明专利]发射光谱分析装置有效
申请号: | 201810144839.0 | 申请日: | 2018-02-12 |
公开(公告)号: | CN108469431B | 公开(公告)日: | 2020-12-18 |
发明(设计)人: | 贝发达也 | 申请(专利权)人: | 株式会社岛津制作所 |
主分类号: | G01N21/67 | 分类号: | G01N21/67 |
代理公司: | 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 | 代理人: | 肖华 |
地址: | 日本国京都府京*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 发射光谱分析 装置 | ||
本发明提供一种即使是不熟练者也能以适当次数执行校正用标准试样的测定的发射光谱分析装置。在发射光谱分析装置中设置:计算部,其针对每个检测器,计算标准试样的多次测定中的测定值的偏差;判定部,其当对全部检测器而言所述偏差为容许值以内的情况下,判定为不需要进行标准试样的追加测定,当对某一个检测器而言所述偏差超过容许值的情况下,判定为需要进行标准试样的追加测定;通知部,其将判定部的判定结果通知给操作者;以及计算/判定控制部,其以在以规定次数进行了标准试样的测定的时刻进行所述偏差的计算及判定,在判定为需要进行追加测定的情况下,其后每进行1次追加测定就进行所述偏差的计算及判定的方式,控制计算部和判定部。
技术领域
本发明涉及一种使试样激励发光而对该发射光进行光谱测定的发射光谱分析装置。
背景技术
在发射光谱分析装置中,一般来说,通过电弧放电、火花放电等对金属或者非金属的固体试样提供能量,从而使该试样进行蒸发气化以及激励发光,将该发射光导入到分光器,取出具有各元素所特有的波长的谱线并进行检测(例如,参照专利文献1)。特别是,作为激励源而使用火花放电的发射光谱分析装置能够进行精度高的分析,所以,在例如钢铁材料、非铁金属材料等的生产工厂中,为了进行所生产的金属体中的组成分析而广泛利用。
这样的发射光谱分析装置中的分光器如专利文献1等所公开的那样,为了得到多个元素各自所特有的波长的谱线,具有用于使来自试样的光进行波长色散的衍射光栅、配置于各波长的谱线所到达的位置的狭缝以及检测通过了各狭缝的光的多个光检测器(通常是光电倍增管)。另外,近年来,还广泛使用具备多个具有大量受光元件的线性CCD传感器等多通道型光检测器的方式的分光器,来代替上述那样的狭缝以及光检测器。在具备这样的方式的分光器的发射光谱分析装置中,通过上述多通道型光检测器一并检测利用所述衍射光栅而进行了波长色散的光中的规定的波长范围的光。
在这样的发射光谱分析装置中,为了确保测定的准确度,通常,在测定时进行使用标准试样的校正作业。在校正作业中,首先,使包含规定浓度的目标元素的标准试样激励发光,调查此时的由光检测器测定的受光强度的测定值以多大程度从基准值偏移,导出用于修正该偏移的校正信息(例如,校正系数等)。此外,作为所述基准值,例如使用在将该发射光谱分析装置交给用户的阶段设定的初始值等。上述校正信息针对设为检测对象的每个元素(或者谱线)而求出,并存储到存储器等存储装置中。然后,其后在测定包含未知浓度的目标元素的目标试样时,从所述存储装置读出与该目标元素(或者谱线)相关的校正信息,使用该校正信息来修正通过测定所述目标试样而得到的信号强度的测定值。
另外,在上述的由多通道型光检测器实施谱线的检测的方式的发射光谱分析装置中,根据分析环境条件(典型地说,室温)的不同,构成分光器的各结构要素间的距离会变化,与此相伴地,光检测器的受光面上的各谱线的入射位置会发生变动。即,在多通道型光检测器的受光面上排列的各受光元件与由该受光元件检测的光的波长的对应关系会发生偏移。
因此,在这样的方式的发射光谱分析装置中,除了上述检测器灵敏度的校正之外,还实施各受光元件的检测波长的校正(下面称为波长校正)。具体来说,首先,测定包含目标元素的标准试样,根据由多通道型光检测器中包括的各受光元件接收到的光的强度,确定该检测器的受光面上的目标元素的谱线的入射位置。这样的入射位置的确定例如针对入射到受光面上的尽可能远离的位置的2根谱线(波长已知)而进行,根据各谱线的波长以及其入射位置,确定入射到受光面上的各位置(即,各受光元件)的光的波长。关于设置于分光器的多个多通道型检测器分别求出这样的受光元件与入射光的波长的对应关系的信息,并作为波长校正信息存储到存储器等存储装置中,用于以后的测定。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2001-83096号公报
发明内容
发明要解决的技术问题
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