[发明专利]发射光谱分析装置

权利要求书

1.一种发射光谱分析装置，其对试样提供能量而使该试样激励发光，由多个检测器检测使该发射光进行波长色散而得到的多根谱线，

所述发射光谱分析装置的特征在于，具有：

a)计算单元，其针对所述多个检测器，分别计算对于标准试样进行多次测定中的测定值的偏差；

b)判定单元，当对所述多个检测器的全部而言所述偏差在预定的容许值以内的情况下，所述判定单元判定为不需要进行所述标准试样的追加测定，当对所述多个检测器中的至少一个检测器而言所述偏差超过所述容许值的情况下，所述判定单元判定为需要进行所述标准试样的追加测定；

c)通知单元，其将所述判定单元的判定结果通知给操作者；以及

d)控制单元，其以下述方式控制所述计算单元以及所述判定单元：在以预定的次数进行了所述标准试样的测定的时刻，进行由所述计算单元实施的偏差的计算以及由所述判定单元实施的判定，在通过该判定单元判定为需要进行追加测定的情况下，其后，每进行1次追加测定就进行由所述计算单元实施的偏差的计算以及由所述判定单元实施的判定。

2.根据权利要求1所述的发射光谱分析装置，其特征在于，

除所述通知单元之外具有追加测定执行单元，或者代替所述通知单元而具有追加测定执行单元，所述追加测定执行单元在通过所述判定单元判定为需要进行标准试样的追加测定的情况下执行所述标准试样的追加测定。

3.根据权利要求1或者2所述的发射光谱分析装置，其特征在于，

所述计算单元基于多次测定所述标准试样而得到的测定值中的预定的个数的测定值来计算所述偏差，其中，以使所述偏差的值最小的方式选择该预定的个数的测定值。

4.根据权利要求1或者2所述的发射光谱分析装置，其特征在于，

所述测定值是所述检测器的受光强度或者根据该受光强度计算出的校正系数。

5.根据权利要求3所述的发射光谱分析装置，其特征在于，

所述测定值是所述检测器的受光强度或者根据该受光强度计算出的校正系数。

6.根据权利要求1或者2所述的发射光谱分析装置，其特征在于，

所述检测器是多通道型检测器，

所述测定值是该多通道型检测器的受光面上的规定的谱线的入射位置。

7.根据权利要求3所述的发射光谱分析装置，其特征在于，

所述检测器是多通道型检测器，

所述测定值是该多通道型检测器的受光面上的规定的谱线的入射位置。

8.根据权利要求1或者2所述的发射光谱分析装置，其特征在于，

在即使按预定的最大次数进行所述标准试样的测定，对所述多个检测器中的至少一个检测器而言所述偏差仍超过所述容许值的情况下，所述判定单元进一步地判定为校正错误。

9.根据权利要求3所述的发射光谱分析装置，其特征在于，

在即使按预定的最大次数进行所述标准试样的测定，对所述多个检测器中的至少一个检测器而言所述偏差仍超过所述容许值的情况下，所述判定单元进一步地判定为校正错误。

10.根据权利要求4所述的发射光谱分析装置，其特征在于，

在即使按预定的最大次数进行所述标准试样的测定，对所述多个检测器中的至少一个检测器而言所述偏差仍超过所述容许值的情况下，所述判定单元进一步地判定为校正错误。