[发明专利]光阀结构及其制造方法、操作方法、阵列基板、电子装置有效
| 申请号： | 201810128787.8 | 申请日： | 2018-02-08 |
| 公开（公告）号： | CN108267900B | 公开（公告）日： | 2021-03-02 |
| 发明（设计）人： | 何晓龙;陈娟;石岳 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1343 | 分类号： | G02F1/1343;G02F1/1362 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 彭久云 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种光阀结构及其制造方法、操作方法、阵列基板、电子装置，该光阀结构包括衬底基板、透光部分、遮光部分。透光部分设置在衬底基板上，且透光部分可透光且至少包括第一电极；可卷曲的遮光部分设置在透光部分上且其第一端相对于透光部分位置固定，遮光部分非透光且包括衬底层以及层叠在衬底层上的第二电极；其中，遮光部分被配置为能够卷曲以远离透光部分，和/或，遮光部分被配置为能够由于第一电极和第二电极之间的相互吸附伸展以层叠在透光部分上。 | ||
| 搜索关键词： | 结构 及其 制造 方法 操作方法 阵列 电子 装置 | ||
【主权项】：
1.一种光阀结构，其特征在于，包括：衬底基板；在所述衬底基板上的透光部分，其中，所述透光部分可透光且至少包括第一电极；可卷曲的遮光部分，其中，所述遮光部分设置在所述透光部分上且其第一端相对于所述透光部分位置固定，所述遮光部分非透光且包括衬底层以及层叠在所述衬底层上的第二电极；其中，所述遮光部分被配置为能够卷曲以远离所述透光部分，和/或，所述遮光部分被配置为能够由于所述第一电极和所述第二电极之间的相互吸附伸展以层叠在所述透光部分上。
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