[发明专利]柔性基板及其制备方法在审
| 申请号： | 201810121371.3 | 申请日： | 2018-02-07 |
| 公开（公告）号： | CN108365094A | 公开（公告）日： | 2018-08-03 |
| 发明（设计）人： | 石钰;陈黎暄 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L51/00 | 分类号： | H01L51/00;H01L51/52;H01L51/56;H01L23/14;H01L21/48 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种柔性基板制备方法，方法包括：在玻璃基板表面制备至少两层层叠的柔性基底层，并使得相对靠近玻璃基板的柔性基底层的折射率，小于相对远离玻璃基板的柔性基底层的折射率；在位于上层的柔性基底层表面制备水氧阻隔层；并使得水氧阻隔层的折射率，大于位于水氧阻隔层下层的柔性基底层的折射率；有益效果为：采用本发明提供的方法制备的柔性基板，通过将不同折射率的膜层依序层叠组合，进而提高基板的光透过率。 | ||
| 搜索关键词： | 柔性基底层 折射率 制备 水氧阻隔层 柔性基板 玻璃基板 玻璃基板表面 表面制备 层叠组合 光透过率 基板 膜层 下层 上层 | ||
【主权项】：
1.一种柔性基板制备方法，其特征在于，所述方法包括：S10，提供玻璃基板；S20，在所述玻璃基板表面制备至少两层层叠的柔性基底层；并使得相对靠近所述玻璃基板的所述柔性基底层的折射率，小于相对远离所述玻璃基板的所述柔性基底层的折射率；S30，在位于上层的所述柔性基底层表面制备水氧阻隔层；并使得所述水氧阻隔层的折射率，大于位于所述水氧阻隔层下层的所述柔性基底层的折射率；S40，去除所述玻璃基板，得到具有高透过率的柔性基板。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件；专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的；具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射；专门适用于将这些辐射能转换为电能，或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的，如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
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