[发明专利]反射器件、像素单元、显示装置及其制作方法有效
| 申请号： | 201810105838.5 | 申请日： | 2018-02-02 |
| 公开（公告）号： | CN108279522B | 公开（公告）日： | 2021-02-02 |
| 发明（设计）人： | 吴小会;姜妮;石博 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02B5/08 |
| 代理公司： | 北京风雅颂专利代理有限公司 11403 | 代理人： | 李莎;李弘 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种反射器件、像素单元、显示装置及其制作方法，包括依次层叠设置的反射层、干涉层和纳米孔柱阵列层，所述反射层设置在所述反射器件远离出光侧的一侧，所述干涉层用于使入射光和经所述反射层反射的反射光发生干涉现象，从而在所述反射器件上反射预设颜色。本发明具有极高的共振反射率，充分利用环境光，能够显著提高全反射显示器件的色域、亮度和可视角度，从而提高显示器件的画面显示效果。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 器件 像素 单元 显示装置 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种反射器件，其特征在于，包括依次层叠设置的反射层、干涉层和纳米孔柱阵列层，所述反射层设置在所述反射器件远离出光侧的一侧，所述干涉层用于使入射光和经所述反射层反射的反射光发生干涉现象，从而在所述反射器件上反射预设颜色。
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