[发明专利]一种光刻方法及光刻机在审
| 申请号： | 201810099833.6 | 申请日： | 2018-01-31 |
| 公开（公告）号： | CN108363273A | 公开（公告）日： | 2018-08-03 |
| 发明（设计）人： | 龙海凤;李天慧;藤井光一 | 申请（专利权）人： | 德淮半导体有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 吴敏 |
| 地址： | 223302 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种光刻机及光刻方法，包括沿光路依次设置的光源、挡板、光阑、光学元件、掩膜版、投影透镜和基片；所述光阑包括透光区域；所述光阑用于过滤所述光源的光，使得0级光与1级光叠加的部分通过。上述方案的光刻机保留0级光与1级光叠加的部分，过滤掉0级光与1级光的未叠加部分，进而保证光刻图形的均匀性，提高光刻图案对比度，从而提高光刻机的性能。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻机 光阑 光叠加 光刻 光源 过滤 挡板 光刻图案 光刻图形 光学元件 投影透镜 透光区域 依次设置 均匀性 掩膜版 光路 叠加 保留 保证 | ||
【主权项】：
1.一种光刻机，包括沿光路依次设置的光源、挡板、光阑、光学元件、掩膜版、投影透镜和基片；所述光阑包括透光区域；其特征在于，所述光阑用于过滤所述光源的光，使得0级光与1级光的叠加部分通过。
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