[发明专利]掩膜板、使用其得到的有机保护层以及显示装置在审
申请号: | 201810098950.0 | 申请日: | 2018-01-31 |
公开(公告)号: | CN108227290A | 公开(公告)日: | 2018-06-29 |
发明(设计)人: | 郭建东;吴君辉 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335;G02F1/1333 |
代理公司: | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人: | 阚梓瑄;王卫忠 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开一种掩膜板、使用其得到的有机保护层以及显示装置。掩膜板包括透光区和图案区,图案区包括多个第一图案,相邻的第一图案间隔设置,该第一图案由透光区延伸至图案区,第一图案之间的间隔距离能够使透过掩膜板的光线发生多缝衍射,从而可以使图案区对应的有机保护层的厚度减小,以形成过度。 | ||
搜索关键词: | 图案区 掩膜板 有机保护层 显示装置 透光区 图案 厚度减小 间隔距离 图案间隔 衍射 延伸 | ||
【主权项】:
1.一种掩膜板,用于有机保护层,其特征在于,所述掩膜板包括透光区和图案区,所述图案区包括多个第一图案,相邻的所述第一图案间隔设置,该第一图案由所述透光区延伸至所述图案区,所述第一图案之间的间隔距离能够使透过所述掩膜板的光线发生多缝衍射。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810098950.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。