[发明专利]掩膜板、使用其得到的有机保护层以及显示装置在审

专利信息
申请号: 201810098950.0 申请日: 2018-01-31
公开(公告)号: CN108227290A 公开(公告)日: 2018-06-29
发明(设计)人: 郭建东;吴君辉 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G02F1/1333
代理公司: 北京律智知识产权代理有限公司 11438 代理人: 阚梓瑄;王卫忠
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 图案区 掩膜板 有机保护层 显示装置 透光区 图案 厚度减小 间隔距离 图案间隔 衍射 延伸
【权利要求书】:

1.一种掩膜板,用于有机保护层,其特征在于,所述掩膜板包括透光区和图案区,所述图案区包括多个第一图案,相邻的所述第一图案间隔设置,该第一图案由所述透光区延伸至所述图案区,所述第一图案之间的间隔距离能够使透过所述掩膜板的光线发生多缝衍射。

2.如权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述第一图案为三角形结构、四边形结构、五边形结构。

3.如权利要求2所述的掩膜板,其特征在于,所述第一图案的边缘为曲线或者直线。

4.如权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述第一图案由铬金属材料制成。

5.如权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,相邻的所述第一图案之间的间隔距离为3-5μm。

6.一种有机保护层,其特征在于,所述有机保护层为使用根据权利要求1至5中任一项所述的掩膜板获得,所述图案区对应的有机保护层的厚度尺寸与所述透光区对应的有机保护层的厚度尺寸比为0.3-0.6。

7.如权利要求6所述的有机保护层,其特征在于,所述图案区对应的有机保护层的厚度尺寸与所述透光区对应的有机保护层的厚度尺寸的比为0.5。

8.如权利要求6所述的有机保护层,其特征在于,所述图案区对应的有机保护层的厚度尺寸为0.8-2μm。

9.如权利要求8所述的有机保护层,其特征在于,所述图案区对应的有机保护层的厚度尺寸为1-1.5μm。

10.一种显示装置,包括玻璃基板、依次设置于所述玻璃基板上的触摸电极层、有机保护层以及偏光片结构,其特征在于,所述触摸电极层包括被偏光片覆盖的电极层覆盖区和未被偏光片覆盖的电极层未覆盖区,所述有机保护层为如权利要求6至9中任一项所述的有机保护层,所述有机保护层覆盖于所述电极层未覆盖区并覆盖于所述电极层覆盖区的一部分。

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