[发明专利]沉积用掩模的制造方法在审
| 申请号： | 201810093816.1 | 申请日： | 2018-01-31 |
| 公开（公告）号： | CN108374144A | 公开（公告）日： | 2018-08-07 |
| 发明（设计）人： | 任星淳;文英慜;黄圭焕;金圣哲 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/12;H01L51/56;B23K26/064;B23K26/067 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人： | 王达佐;刘铮 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及沉积用掩模的制造方法，其使得沉积用图案的精度得到提升，该方法包括以下步骤：通过电镀在第一电极上形成掩模基材；将第一电极和掩模基材布置到激光加工装置；对掩模基材进行激光加工，以形成具有沉积用图案的沉积用掩模；以及从第一电极分离沉积用掩模。 | ||
| 搜索关键词： | 掩模 沉积 第一电极 基材 激光加工装置 图案 激光加工 电镀 制造 | ||
【主权项】：
1.沉积用掩模的制造方法，包括以下步骤：通过电镀在第一电极上形成掩模基材；将所述第一电极和所述掩模基材布置到激光加工装置；对所述掩模基材进行激光加工，以形成具有沉积用图案的沉积用掩模；以及从所述第一电极分离所述沉积用掩模。
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