[发明专利]一种具有层层组装结构的功能化一维纳米线/纳米链的制备方法在审

专利信息
申请号: 201810093097.3 申请日: 2018-01-31
公开(公告)号: CN108485259A 公开(公告)日: 2018-09-04
发明(设计)人: 杨海峰;吴一萍;王敏行;黄井谦;张翔 申请(专利权)人: 上海师范大学
主分类号: C08L79/02 分类号: C08L79/02;C08L99/00;C08L5/00;C08L25/18;C08J3/00;C08K3/30;B82Y40/00
代理公司: 上海诺衣知识产权代理事务所(普通合伙) 31298 代理人: 韩国辉
地址: 200234 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种具有层层组装结构的功能化一维纳米线/纳米链的制备方法,首先将表面有疏水柱状微阵列的印章与DNA溶液或高分子量聚合物溶液接触后,利用分子梳法用剥离或提拉的方式制备长度可达厘米至分米级的一维纳米线/纳米链;之后在一维纳米线表面进行层层组装,制备层层组装的功能性纳米线/纳米链。由于可方便的将具有功能性的聚合物、生物大分子及纳米粒子组装到纳米线上,该自支持一维功能性纳米线/纳米链有望在集成电路、传感器、信息存储、化学催化等领域获得应用。该方法克服了传统一维纳米线层层组装时步骤繁琐的缺陷,也不需要昂贵的设备,为一维功能性纳米线/纳米链的广泛应用提供了更广阔的空间。
搜索关键词: 纳米链 一维纳米线 层层组装 制备 功能性纳米 功能化 高分子量聚合物 纳米粒子组装 生物大分子 化学催化 溶液接触 信息存储 应用提供 分子梳 聚合物 纳米线 疏水柱 微阵列 自支持 传感器 提拉 集成电路 剥离 印章 应用
【主权项】:
1.一种具有层层组装结构的功能化一维纳米线/纳米链的制备方法,其特征在于,具体步骤包括:(1)将图案化疏水印章的有柱状微阵列的一面与DNA溶液或高分子量的聚合物溶液接触后,用剥离或提拉的方式,采用分子梳法在柱状微阵列表面制备一维纳米线/纳米链阵列;(2)干燥后将疏水印章上表面具有一维纳米线阵列的一面与另一种具有与纳米线具有较强相互作用的聚合物/生物大分子溶液或功能性粒子悬浮液接触,之后用剥离或提拉的方式制备聚合物/聚合物或聚合物/纳米粒子一维复合物纳米线/纳米链阵列;(3)重复步骤(1)、(2)即可制得层层组装的一维复合物纳米线/纳米链阵列。
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