[发明专利]一种高纯、低灼烧残渣的制备阿扎胞苷的方法在审
申请号: | 201810089336.8 | 申请日: | 2018-01-30 |
公开(公告)号: | CN110092807A | 公开(公告)日: | 2019-08-06 |
发明(设计)人: | 潘显道;林菁菁;杜国华;沈珑瑛 | 申请(专利权)人: | 中国医学科学院药物研究所 |
主分类号: | C07H19/12 | 分类号: | C07H19/12;C07H1/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100050*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及医药合成工艺领域,公开了一种阿扎胞苷的合成方法。该方法提高了阿扎胞苷的质量和产物纯度,且反应条件易于控制并降低了生产成本,适合应用于工业化生产。 | ||
搜索关键词: | 阿扎胞苷 产物纯度 反应条件 工艺领域 医药合成 灼烧残渣 高纯 制备 生产成本 合成 应用 | ||
【主权项】:
1.一种制备阿扎胞苷的工艺,其特征在于,通过下述步骤合成:
1.1在六甲基二硅氮烷和120℃~140℃条件下,5‑氮杂胞嘧啶和六甲基二硅氮烷在硫酸铵催化下下反应15‑20小时得中间体1;1.2在无水二氯甲烷中和室温~50℃条件下,中间体1和四乙酰核糖在三氟甲磺酰三甲基硅酯催化下反应5‑24小时得中间体2,将中间体2后处理后继续进行1.3步;1.3在无水甲醇中,中间体2在甲醇钠作用下脱去乙酰基反应3‑5小时得到阿扎胞苷粗品;1.4阿扎胞苷粗品加热溶解在二甲亚砜中,缓慢加入甲醇析出阿扎胞苷精品;其中,反应结构式中所述的HMDS为六甲基二硅氮烷,TMSOTf为三氟甲磺酰三甲基硅酯。
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