[发明专利]X射线光学装置有效
| 申请号： | 201810066919.9 | 申请日： | 2018-01-24 |
| 公开（公告）号： | CN108459036B | 公开（公告）日： | 2022-10-04 |
| 发明（设计）人： | 达米安·库查茨克 | 申请（专利权）人： | 株式会社理学 |
| 主分类号： | G01N23/20008 | 分类号： | G01N23/20008 |
| 代理公司： | 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 | 代理人： | 吴大建;陈伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供了一种在X射线分析系统中使用的X射线光学装置，其包括：发射X射线的X射线源，X射线光学器件，将由X射线源产生的X射线成像到待分析的样品上；以及光束阻挡单元，布置为选择性地阻挡由X射线光学器件输出的X射线光束的至少一部分。光束阻挡单元包括旋转轴和光束阻挡元件，旋转轴能够围绕其轴线旋转并相对于由X射线光学器件输出的X射线光束侧向偏移地布置，光束阻挡元件偏心地安装在旋转轴上，当光束阻挡元件围绕旋转轴轴线偏心地旋转时，光束阻挡元件能够移动到不同的光束重叠位置中以阻挡输出的X射线光束的相应部分。还提供了一种用于分析结晶或粉末样品的X射线分析系统，包括上述X射线光学装置、样品台和X射线探测器。 | ||
| 搜索关键词： | 射线 光学 装置 | ||
【主权项】：
1.一种X射线光学装置(110、110a)，包括：X射线源(1100)，其构造成发射X射线；X射线光学器件(1200)，其构造成将由所述X射线源(1100)生成的X射线光束(240)成像到待分析的样品(300)上；以及光束阻挡单元(1300)，其布置为选择性地阻挡由所述X射线光学器件(1200)输出的所述X射线光束(240)的至少一部分；光束阻挡单元(1300)包括旋转轴(1310)和光束阻挡元件(1320)，其中，所述旋转轴(1310)能够围绕其轴线(1312)旋转并相对于由所述X射线光学器件(1200)输出的所述X射线光束(240)侧向偏移地布置，并且其中，所述光束阻挡元件(1320)偏心地安装在所述旋转轴(1310)上，以便当所述光束阻挡元件(1320)围绕旋转轴线(1312)偏心地旋转时，所述光束阻挡元件(1320)能够移动到不同的光束重叠位置中以阻挡相应的光束(240)部分。
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