[发明专利]缺陷检测方法及缺陷检测设备有效

专利信息
申请号: 201810060335.0 申请日: 2018-01-22
公开(公告)号: CN108387587B 公开(公告)日: 2020-07-31
发明(设计)人: 习征东;李圭铉;刘超强;王建宏;王金顺 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司
主分类号: G01N21/95 分类号: G01N21/95;G01B11/06
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 胡萌
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种缺陷检测方法及检测设备,涉及显示装置制造技术领域,用于解决传统缺陷检测过程受人为因素影响大,造成检测的准确度差的问题,及传统缺陷检测过程耗时长,造成生产效率下降的问题。其中该检测方法包括:获取待检测基板的灰阶图像;判断灰阶图像中是否存在灰阶异常区域,如果是,则确定灰阶图像中的灰阶异常区域和灰阶正常区域,然后执行下一步骤,如果否,则判定待检测基板合格;计算灰阶异常区域与灰阶正常区域的灰阶差值;根据灰阶差值计算灰阶异常区域与灰阶正常区域的膜厚差估计值;根据膜厚差估计值判断待检测基板是否合格。上述方法应用于显示装置的制造过程中,对基板上所涂布的透明薄膜的厚度均匀性进行考察。
搜索关键词: 缺陷 检测 方法 设备
【主权项】:
1.一种缺陷检测方法,其特征在于,所述缺陷检测方法包括以下步骤:S1:获取待检测基板的灰阶图像;S2:判断所述灰阶图像中是否存在灰阶异常区域,如果是,则确定所述灰阶图像中的灰阶异常区域和灰阶正常区域,然后进入步骤S3;如果否,则判定所述待检测基板合格;S3:计算所述灰阶异常区域与所述灰阶正常区域的灰阶差值g;S4:根据所述灰阶差值g,计算所述灰阶异常区域与所述灰阶正常区域的膜厚差估计值d;S5:根据所述膜厚差估计值d,判断所述待检测基板是否合格。
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