[发明专利]一种应用于直写式曝光机的拼接调试方法在审

专利信息
申请号: 201810060266.3 申请日: 2018-01-22
公开(公告)号: CN108333881A 公开(公告)日: 2018-07-27
发明(设计)人: 张玉喆 申请(专利权)人: 合肥芯碁微电子装备有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 合肥天明专利事务所(普通合伙) 34115 代理人: 宋倩;奚华保
地址: 230088 安徽省合肥市高新区*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明提供一种应用于直写式曝光机的拼接调试方法,包括:设计一种合适的曝光图形;将场间位置关系理论设计值作为初始的场间位置关系值;在曝光台面上放置一块印刷电路板;将曝光图形曝光至印刷电路板上;测量每个MARK点的坐标并记录;计算符合条件的两个相邻MARK点沿X、Y两个方向的偏移分量;判断两个方向的偏移分量是否均在预设的指标范围内,若是,则将当前的场间位置关系值作为最终的场间位置关系值,若否,则将偏移分量补偿至当前的场间位置关系值中,重复上述步骤。本发明通过设计出一种合适的曝光图形,并借助于直写式曝光机自身的高精度测量系统进行自动测量计算和补偿验证,大大节约了调试时间,有效提高了生产效率。
搜索关键词: 场间 偏移分量 曝光图形 曝光机 直写 印刷电路板 调试 拼接 高精度测量系统 符合条件 理论设计 生产效率 自动测量 曝光台 预设 应用 测量 验证 曝光 节约 重复 记录
【主权项】:
1.一种应用于直写式曝光机的拼接调试方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:(1)设计一种与待调试直写式曝光机的最大曝光尺寸一致的曝光图形,所述曝光图形的内容为等间距的MARK点矩阵且所述矩阵中每个MARK点都具有一个唯一的标识;(2)将待调试直写式曝光机的每对相邻曝光子单元的场间位置关系理论设计值作为其初始的场间位置关系值;(3)在曝光台面上放置一块印刷电路板;(4)利用待调试直写式曝光机将所述曝光图形曝光至所述印刷电路板上;(5)利用待调试直写式曝光机的测量系统对印刷电路板上已经曝光的MARK点矩阵进行测量,记录下每个MARK点的中心坐标;(6)对于每对相邻曝光子单元,任选分别属于该对相邻曝光子单元中的两个曝光子单元曝光且列坐标相同的两个相邻MARK点,计算所述两个相邻MARK点沿X、Y方向的偏移分量Δx、Δy;(7)判断Δx、Δy是否均在预设的指标范围内,若否,则执行步骤(8),若是,则执行步骤(9);(8)将Δx、Δy补偿至该对相邻曝光子单元的当前的场间位置关系值中,然后重复步骤(3)至步骤(7);(9)将该对相邻曝光子单元的当前的场间位置关系值作为其最终的场间位置关系值。
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