[发明专利]一种高强度高电导率铜铬锆合金及其低温变形制备方法有效

专利信息
申请号: 201810059243.0 申请日: 2018-01-22
公开(公告)号: CN110066939B 公开(公告)日: 2020-09-18
发明(设计)人: 孙利昕;张志远;陶乃镕;卢柯 申请(专利权)人: 中国科学院金属研究所
主分类号: C22F1/08 分类号: C22F1/08;C22C9/00
代理公司: 沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21234 代理人: 张志伟
地址: 110016 辽*** 国省代码: 辽宁;21
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及铜合金及其应用领域,具体涉及一种高强度高电导率铜铬锆合金及其低温变形制备方法。该合金的化学成分质量百分比为:铬0.2~1.5%,锆0.05~0.2%,其余为铜及不可避免的杂质。该合金典型的组织为具有纳米尺度变形结构的铜基体和弥散分布的铬颗粒。其中典型的纳米结构为变形孪晶束,孪晶层片厚度20~100纳米,孪晶束尺寸数微米至数百微米。弥散分布的铬颗粒粒径在10~100纳米。该合金具有700MPa级别强度,同时电导率在78~82%IACS范围。该合金的制造包括合金坯熔铸热加工及低温变形两部分。本发明合金具有强度高、电导率高、软化温度高、耐磨、焊接性优良等特点,可适用于现有铜铬锆合金使用领域,以及对强度‑电导率有更高要求的领域。
搜索关键词: 一种 强度 电导率 铜铬锆 合金 及其 低温 变形 制备 方法
【主权项】:
1.一种高强度高电导率铜铬锆合金,其特征在于,该合金的化学组成质量百分比为Cr:0.2~1.5,Zr:0.05~0.2%,余量为铜及不可避免的杂质。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院金属研究所,未经中国科学院金属研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810059243.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top