[发明专利]一种规则排列多孔纳米结构薄膜的模版拓印方法在审
申请号: | 201810003253.2 | 申请日: | 2018-01-03 |
公开(公告)号: | CN108265278A | 公开(公告)日: | 2018-07-10 |
发明(设计)人: | 宋玉军;张伟伟;田青坤 | 申请(专利权)人: | 北京科技大学 |
主分类号: | C23C16/01 | 分类号: | C23C16/01;C23C14/00;C25D11/04;B82Y40/00 |
代理公司: | 北京市广友专利事务所有限责任公司 11237 | 代理人: | 张仲波 |
地址: | 100083*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供一种规则排列多孔纳米结构薄膜的模版拓印方法,属于纳米加工制备技术领域。该方法首先选取带有多孔纳米孔结构的阳极氧化铝薄膜做为衬底;然后利用磁控溅射、热蒸镀、分子束外延、金属有机气相化学沉积、原子层沉积等方法在选取好的阳极氧化铝薄膜上沉积单一的金属、磁性材料、半导体成份及其混合成份;再将带有薄膜的表面粘贴到胶带上或者表面旋涂透明的聚合物溶液后烘干;最后用碱性、酸性或金属盐溶液去除阳极氧化铝薄膜,得到规则排列的多孔纳米结构薄膜。该方法操作过程简单易行,制得的薄膜具有独特的鞋钉状纳米孔结构。 | ||
搜索关键词: | 薄膜 阳极氧化铝薄膜 多孔纳米结构 规则排列 模版 拓印 制备技术领域 金属 半导体成份 分子束外延 金属盐溶液 聚合物溶液 原子层沉积 表面粘贴 操作过程 磁控溅射 磁性材料 多孔纳米 化学沉积 混合成份 纳米加工 孔结构 纳米孔 热蒸镀 透明的 有机气 烘干 胶带 衬底 鞋钉 旋涂 沉积 去除 | ||
【主权项】:
1.一种规则排列多孔纳米结构薄膜的模版拓印方法,其特征在于:包括步骤如下:(1)选取带有多孔纳米孔结构的阳极氧化铝薄膜作为衬底;(2)在步骤(1)选取好的阳极氧化铝薄膜上沉积单一的金属、磁性材料、半导体成份或上述的混合成份;(3)将步骤(2)中沉积后的阳极氧化铝薄膜的表面粘贴到胶带上或者在其表面旋涂透明的聚合物溶液后烘干;(4)用碱性、酸性或金属盐溶液去除步骤(3)中处理后的衬底上的阳极氧化铝薄膜;(5)将步骤(4)中得到的样品从溶液中捞出并用髙纯水或去离子水反复浸泡以去除样品表面的杂质粒子,然后烘干,得到规则排列的多孔纳米结构薄膜。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的