[发明专利]一种包括具有改进的抗剥离性的上层的物体的光刻设备有效
| 申请号： | 201780087227.6 | 申请日： | 2017-11-27 |
| 公开（公告）号： | CN110337612B | 公开（公告）日： | 2021-05-28 |
| 发明（设计）人： | A·尼基帕罗夫;V·Y·班尼恩;约斯特·安德烈·克鲁格斯特;M·A·纳萨莱维奇;罗兰·约翰内斯·威廉姆斯·斯塔斯;桑德罗·沃锐克 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 闫红 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供了一种光刻设备，包括：物体，所述物体包括：衬底和可选地在所述衬底上的下层；上层；和在所述上层与所述衬底之间的中间层，其中所述中间层与所述衬底或下层之间的结合强度大于所述中间层与所述上层之间的结合强度，并且所述中间层的杨氏模量和/或泊松比在所述上层的杨氏模量和/或泊松比的上下20％以内。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 包括 具有 改进 剥离 上层 物体 光刻 设备 | ||
【主权项】：
1.一种包括物体的光刻设备，所述物体包括：衬底和在所述衬底上的可选的下层；上层；和在所述上层与所述衬底或所述下层之间的中间层，其中，所述中间层与所述衬底或所述下层之间的结合强度大于所述中间层与所述上层之间的结合强度，并且所述中间层的杨氏模量和/或泊松比在所述上层的杨氏模量和/或泊松比的上下20％以内。
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