[发明专利]凹版的制造方法及凹版制造装置有效
申请号: | 201780086452.8 | 申请日: | 2017-12-27 |
公开(公告)号: | CN110300930B | 公开(公告)日: | 2023-03-24 |
发明(设计)人: | 村元秀次;川越理史;增尾纯一 | 申请(专利权)人: | 株式会社斯库林集团 |
主分类号: | G03F7/38 | 分类号: | G03F7/38;G03F7/00;G03F7/20 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 宋晓宝;向勇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种技术,在通过使感光性材料曝光而制造凹版的情况下,可针对每一种开口尺寸单独地控制凹部的深度,且可缩短制造所需的时间。有关具有平坦部与多个凹部的凹版的制造方法的本发明具备:第1步骤(步骤S103),使由光硬化性材料形成的感光层中的成为平坦部的区域以为了将凹部中的开口尺寸为最小的第1尺寸的凹部设为目标深度所需的第1曝光量进行曝光而硬化;及第2步骤(步骤S106),不使感光层中的成为具有第1尺寸的凹部的第1区域曝光,而使感光层中的成为开口尺寸为比第1尺寸大的第2尺寸的凹部的第2区域以第2曝光量进行曝光。 | ||
搜索关键词: | 凹版 制造 方法 装置 | ||
【主权项】:
1.一种凹版的制造方法,其是具有平坦部及在上述平坦部形成开口的多个凹部的凹版的制造方法,其中,具备:第1步骤,使由光硬化性材料形成的感光层中的成为上述平坦部的区域以第1曝光量进行曝光而硬化,该第1曝光量是为了将上述凹部中的开口尺寸为最小的第1尺寸的凹部设为目标深度所需的曝光量;及第2步骤,不使上述感光层中的成为具有上述第1尺寸的上述凹部的第1区域曝光,而使上述感光层中的成为开口尺寸为比上述第1尺寸大的第2尺寸的上述凹部的第2区域以第2曝光量进行曝光。
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