[发明专利]用于清洁基材局部区域的装置和方法有效

专利信息
申请号: 201780082382.9 申请日: 2017-11-16
公开(公告)号: CN110291460B 公开(公告)日: 2023-05-12
发明(设计)人: 大卫·达堤洛;伍威·戴兹;马丁·萨玛约亚 申请(专利权)人: 休斯微科光罩仪器股份有限公司
主分类号: G03F1/82 分类号: G03F1/82;G03F1/64;B08B1/00
代理公司: 华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 何冲;黄隶凡
地址: 德国斯特内弗*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种用于清洁基材(尤其是光掩模)的局部区域的装置及方法。装置具有:清洁头,具有在待清洁的基材区域上方且紧密接近于其而配置的下部表面,下部表面具有在其中形成的中心开口、包围中心开口的第一环形凹槽及配置于第一环形凹槽与中心开口之间的至少一第二凹槽,第一环形凹槽以流体方式连接至允许连接至外部供应源的第一端口,第二环形凹槽以流体方式连接至允许连接至外部供应源的第二端口;供带机构,向清洁头的下部表面中的中心开口供应研磨带,使得研磨带的一部分自中心开口突出;液体介质管道,具有在中心开口处或附近处向研磨带的背侧供应液体的出口。
搜索关键词: 用于 清洁 基材 局部 区域 装置 方法
【主权项】:
1.一种用于清洁基材,尤其是光掩模,的局部区域的装置,包括:清洁头,具有经设置以在待清洁的基材区域上方且紧密接近于其而配置的下部表面,所述下部表面具有在其中形成的中心开口、包围所述中心开口的环形的第一凹槽以及配置于环形的所述第一凹槽与所述中心开口之间的至少一第二凹槽,环形的所述第一凹槽以流体方式连接至允许连接至外部供应源的第一端口,且所述第二环形凹槽以流体方式连接至允许连接至外部供应源的第二端口;供带机构,经配置以向所述清洁头的所述下部表面中的所述中心开口供应研磨带,使得所述研磨带的一部分自所述中心开口突出;以及液体介质管道,具有经配置以在所述中心开口处或在所述中心开口的附近处向所述研磨带的背侧供应液体的出口。
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