[发明专利]用于校准光场投射系统的系统、设备和方法有效
| 申请号： | 201780078267.4 | 申请日： | 2017-11-22 |
| 公开（公告）号： | CN110088678B | 公开（公告）日： | 2021-05-11 |
| 发明（设计）人： | R.W.德沃尔;B.J.阿道夫 | 申请（专利权）人： | X开发有限责任公司 |
| 主分类号： | G03B21/60 | 分类号： | G03B21/60;G03B35/00;H04N9/31;H04N13/363;H04N13/327;H04N13/307 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 金玉洁 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开涉及用于校准光场投射系统的系统、设备和方法。一个示例系统包括投射单元，该投射单元可操作以将扫描序列朝向具有凸反射元件的屏幕投射。根据基线强度简档调制扫描序列。该系统还包括校准设备，该校准设备被布置成使得扫描序列的一部分被校准设备截取。校准设备包括第一光检测器，其设置成检测截取的强度简档。校准设备还包括第二光检测器，其被设置为检测扫描序列的反射部分作为测量的强度简档。该系统还包括控制系统。控制系统被配置为基于测量的强度简档与预期强度简档的比较来确定预期强度简档并且修改光场投射系统的操作。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 校准 投射 系统 设备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种系统，包括：投射单元，可操作以将扫描序列朝向具有多个凸反射元件的屏幕投射，其中投射的扫描序列根据基线强度简档被调制；校准设备，其被布置在投射单元和屏幕之间以使得扫描序列的一部分在到达屏幕之前被校准设备截取，其中校准设备包括：(a)第一光检测器，其被设置为检测扫描序列的被截取部分作为截取的强度简档，和(b)第二光检测器，被设置为检测从屏幕反射的扫描序列的反射部分作为测量的强度简档；和控制系统，被配置为：(a)基于基线强度简档和截取的强度简档确定对应于第二光检测器的预期强度简档；和(b)基于测量的强度简档与预期强度简档的比较来修改光场投射系统的操作。
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