[发明专利]测量结构的方法、检查设备、光刻系统和器件制造方法

摘要

通过光刻过程形成重叠量测目标(T)。使用具有第一角度分布的辐射照射目标结构，获得所述目标结构的第一图像，所述第一图像是通过使用在第一方向(X)上衍射的辐射和在第二方向(Y)上衍射的辐射而形成。使用具有第二角度照射分布的辐射照射所述目标结构的第二图像(740(R))，所述第二角度照射分布与所述第一角度照射分布相同但被旋转90度。可以一起使用所述第一图像和所述第二图像，以便判别由所述目标结构的同一部分在所述第一方向上衍射的辐射与在所述第二方向上衍射的辐射。该判别允许在X和Y上独立地测量重叠和其他与不对称性有关的属性，甚至在该目标结构的同一部分内存在二维结构的情况下也是如此。

主权项

1.一种确定由光刻过程形成的目标结构的至少第一部分的属性的方法，所述方法基于由所述目标结构内的周期性特征衍射的辐射并且包括下列步骤：(a)使用检测系统以在利用具有第一角度分布的辐射照射所述目标结构时形成所述目标结构的第一图像，所述第一图像是通过使用由所述目标结构在第一方向上衍射的辐射中的所选择部分和由所述目标结构在第二方向上衍射的辐射中的所选择部分而形成的，所述第一方向和所述第二方向是被相对于所述目标结构限定的，而且所述第一方向和所述第二方向是非平行的；(b)使用所述检测系统以在利用具有第二角度照射分布的辐射照射所述目标结构时形成所述目标结构的第二图像，所述第一角度照射轮廓和所述第二角度照射轮廓相对于所述目标结构彼此不同地定向；(c)组合来自所述第一图像和所述第二图像的强度值，以便判别由所述目标结构的第一部分在所述第一方向上衍射的辐射与由所述目标结构的同一所述第一部分在所述第二方向上衍射的辐射；和(d)至少部分地基于步骤(c)中进行的判别，确定所述目标结构的所述第一部分的属性。