[发明专利]剥离层的制造方法有效
| 申请号： | 201780075600.6 | 申请日： | 2017-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN110062784B | 公开（公告）日： | 2023-01-10 |
| 发明（设计）人： | 江原和也;进藤和也 | 申请（专利权）人： | 日产化学株式会社 |
| 主分类号： | C08G73/10 | 分类号： | C08G73/10;B05D7/00;B05D7/24 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 贾成功 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明提供剥离层的制造方法，其包含将剥离层形成用组合物涂布于基体上、在最高温度450～550℃下进行烧成的工序，所述剥离层形成用组合物包含由下述式(1A)～(1C)表示的聚酰胺酸中的至少一种和有机溶剂。 |
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| 搜索关键词： | 剥离 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种剥离层的制造方法，其包含将剥离层形成用组合物涂布于基体上、在最高温度450～550℃下进行烧成的工序，所述剥离层形成用组合物包含由下述式(1A)～(1C)表示的聚酰胺酸中的至少一种、和有机溶剂，![]()
式中，X相互独立地为具有2个羧酸衍生物的4价的芳香族基团，Y相互独立地为2价的芳香族基团，Z1及Z2相互独立地为1价的有机基团，式(1A)中，Y、Z1及Z2中的至少一个具有碱可溶性基团，式(1B)中，Y及2个Z1中的至少一个具有碱可溶性基团，式(1C)中，Y及2个Z2中的至少一个具有碱可溶性基团，m相互独立地表示自然数。
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