[发明专利]用于电子束系统中的像差校正的方法及系统有效
| 申请号： | 201780074833.4 | 申请日： | 2017-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN110036456B | 公开（公告）日： | 2022-04-05 |
| 发明（设计）人： | 姜辛容;C·西尔斯 | 申请（专利权）人： | 科磊股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/153 | 分类号： | H01J37/153;H01J37/147 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 刘丽楠 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种本发明揭示一种用于执行电子显微术的电子光学系统。所述系统包含电子束源，所述电子束源经配置以产生初级电子束。所述系统包含源透镜、聚光透镜及物镜，其沿着光轴安置。所述系统包含：第一维恩滤波器，其沿着所述光轴安置；及第二维恩滤波器，其沿着所述光轴安置。所述第一维恩滤波器及所述第二维恩滤波器安置于所述源透镜及所述物镜之间。所述第一维恩滤波器经配置以校正所述初级束中的色像差。所述系统还包含检测器组合件，所述检测器组合件经配置以检测源自样品的表面的电子。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 电子束 系统 中的 校正 方法 | ||
【主权项】：
1.一种电子光学系统，其包括：电子束源，其经配置以产生初级电子束；样品台，其经配置以紧固样品；一组电子光学元件，其经配置以将所述初级电子束的至少一部分导引到所述样品的部分上，所述组电子光学元件包括：源透镜，其沿着光轴安置；聚光透镜，其沿着所述光轴安置；物镜，其沿着所述光轴安置；第一偏转器组合件，其沿着所述光轴安置；及第二偏转器组合件，其沿着所述光轴安置，所述第一偏转器组合件及所述第二偏转器组合件安置于所述源透镜与所述物镜之间，其中所述第一偏转器组合件经配置以校正所述初级束中的色像差；及检测器组合件，其经配置以检测源自所述样品的表面的电子。
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