[发明专利]用于图案化应用的自底向上的柱状体的几何控制

摘要

描述了包含在自对准工艺中用第二柱状体材料选择性替换第一柱状体材料的处理方法。所述第一柱状体材料可以垂直于基板表面生长并用第二柱状体材料替换，以留下与第一柱状体材料大体相似的形状和对准。

主权项

1.一种处理方法，包含以下步骤：提供具有基板表面的基板，所述基板表面具有从所述基板表面延伸到所述基板中的至少一个特征，所述特征具有底部和侧壁，所述基板包含第一材料，第一柱状体定位于所述特征内并延伸出所述特征到达第一柱状体顶部，所述第一柱状体从所述特征垂直于所述基板表面延伸；在所述基板表面上沉积第一膜，使得所述第一膜覆盖所述基板表面和所述第一柱状体材料；移除所述第一膜以通过所述第一膜暴露所述第一柱状体顶部；移除所述第一柱状体材料，以留下在所述基板中的空特征和穿过所述第一膜的通道；在所述第一膜上沉积第二膜，使得所述第二膜填充所述基板中的所述特征和穿过所述第一膜的所述通道而形成第二柱状体；移除所述第二膜以暴露所述第一膜和所述第二柱状体的顶部；和移除所述第一膜以使所述基板在所述特征中具有垂直于所述基板表面延伸的所述第二柱状体。