[发明专利]控制晶片平台振动有效
| 申请号： | 201780063837.2 | 申请日： | 2017-10-04 |
| 公开（公告）号： | CN109863454B | 公开（公告）日： | 2021-05-25 |
| 发明（设计）人： | P·J·M·范阿德里切姆;W·E·康利;E·A·梅森 | 申请（专利权）人： | 西默有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;吕世磊 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种方法包括产生脉冲光束；将脉冲光束朝向安装到光刻曝光装置的平台的衬底引导；使脉冲光束和衬底相对于彼此扫描，包括将脉冲光束投射到衬底的每个子区域上并且使脉冲光束和衬底中的一项或多项相对于彼此移动；针对衬底的每个子区域确定平台的振动的值；针对衬底的每个子区域，确定对脉冲光束的带宽的调节量，该调节量补偿平台振动的变化以便跨衬底将焦点模糊保持在预定值范围内；并且将脉冲光束的带宽改变所确定的调节量，从而补偿平台振动变化。 | ||
| 搜索关键词： | 控制 晶片 平台 振动 | ||
【主权项】：
1.一种方法，包括：从所述脉冲光源产生脉冲光束；将所述脉冲光束朝向被安装到光刻曝光装置的平台的衬底引导；在所述脉冲光束与所述衬底之间执行扫描操作，其中所述扫描操作包括将所述脉冲光束投射到所述衬底的每个子区域上并且使所述脉冲光束和所述衬底中的一项或多项相对于彼此移动；针对衬底的每个子区域，确定所述平台的振动的值；针对所述衬底的每个子区域，确定对所述脉冲光束的带宽的调节量，所述调节量补偿平台振动的变化，以便跨所述衬底将焦点模糊保持在预定值范围内；以及当所述脉冲光束对衬底进行曝光时，将所述脉冲光束的带宽改变所确定的调节量，从而补偿所述平台振动变化。
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