[发明专利]控制晶片平台振动

说明书

一种方法包括产生脉冲光束；将脉冲光束朝向安装到光刻曝光装置的平台的衬底引导；使脉冲光束和衬底相对于彼此扫描，包括将脉冲光束投射到衬底的每个子区域上并且使脉冲光束和衬底中的一项或多项相对于彼此移动；针对衬底的每个子区域确定平台的振动的值；针对衬底的每个子区域，确定对脉冲光束的带宽的调节量，该调节量补偿平台振动的变化以便跨衬底将焦点模糊保持在预定值范围内；并且将脉冲光束的带宽改变所确定的调节量，从而补偿平台振动变化。

相关申请的交叉引用

本申请涉及于2016年10月17日提交的美国申请No.15/295,280，该申请通过引用整体并入本文。

技术领域

所公开的主题涉及一种用于通过调节朝向晶片被引导的脉冲光束的特性来在晶片的扫描期间补偿晶片平台的振动的变化的装置。

背景技术

在半导体光刻(或光刻技术)中，集成电路(IC)的制造需要在半导体(例如，硅)衬底(也称为晶片)上执行的各种物理和化学工艺。光刻曝光装置或扫描仪是一种将期望图案施加到衬底的目标部分上的机器。晶片固定到平台，使得晶片总体上沿着由扫描仪的正交的X_L和Y_L方向限定的平面延伸。通过光束照射晶片，该光束的波长在深紫外(DUV)范围内。光束沿着轴向方向行进，该轴向方向与扫描仪的Z_L方向相对应。扫描仪的Z_L方向与横向X_L-Y_L平面正交。临界尺寸(CD)是可以通过曝光装置在晶片上印刷的图案的最小特征尺寸。重要的是，保持均匀或受控的CD以便能够更好地控制印刷在晶片上的微电子特征。

发明内容

在一些总体方面中，一种方法包括：从脉冲光源产生脉冲光束；将脉冲光束朝向安装到光刻曝光装置的平台的衬底引导；在脉冲光束与衬底之间执行扫描操作，其中扫描操作包括将脉冲光束投射到衬底的每个子区域上并且使脉冲光束中的脉冲光束和衬底中的一项或多项相对于彼此移动；针对衬底的每个子区域，确定平台的振动的值；针对衬底的每个子区域，确定对脉冲光束的带宽的调节量，该调节量补偿平台振动的变化以便跨衬底将焦点模糊保持在预定值范围内；以及当脉冲光束对衬底进行曝光时，将脉冲光束的带宽改变所确定的调节量，从而补偿平台振动变化。

实现可以包括以下特征中的一个或多个。例如，可以通过访问查找表以确定保持有效平台振动恒定的带宽的值来确定对特定子区域中的带宽的调节量。该方法可以包括在将脉冲光束朝向衬底引导之前创建查找表。

可以通过在已经在脉冲光束与衬底之间执行扫描操作之后针对衬底的每个子区域确定平台振动的值来确定衬底的每个子区域的平台振动的值。可以通过在脉冲光束对尚未被脉冲光束扫描的衬底进行曝光时将脉冲光束的带宽改变所确定的调节量来在脉冲光束对衬底进行曝光时将脉冲光束的带宽改变所确定的调节量。

可以在将脉冲光束朝向衬底引导之前确定对脉冲光束的带宽的调节量。可以在脉冲光束朝向衬底被引导时并且在衬底的每个子区域处确定对脉冲光束的带宽的调节量。

可以通过调节光谱特征选择装置的一个或多个光学部件来改变脉冲光束的带宽。可以通过旋转和平移光谱特征选择装置的棱镜来调节光谱特征选择装置的一个或多个光学部件。

可以将焦点模糊保持在预定范围内以将形成在衬底中的特征的临界尺寸保持在预定范围内。

可以通过改变脉冲光束的脉冲的突发之间的带宽来改变脉冲光束的带宽。

该方法可以包括测量朝向衬底被引导的脉冲光束的带宽，以及如果所测量的带宽在可接受的带宽范围之外，则调节脉冲光束的带宽。